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镀膜机

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镀膜机

镀膜机概述

镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程形成薄膜。溅射镀膜,利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。
奥匹维特 高真空电阻蒸发镀膜设备

奥匹维特 高真空电阻蒸发镀膜设备

品牌:营口奥匹维特
型号:高真空电阻蒸发镀膜设备
箱式溶剂干燥器

箱式溶剂干燥器

品牌:VAC
型号:箱式溶剂干燥器
VTC-200真空旋转涂膜机

VTC-200真空旋转涂膜机

品牌:沈阳科晶
型号:VTC-200
高分解离子束镀膜仪

高分解离子束镀膜仪

品牌:Gatan
型号:681
AP-MMS1小型磁控溅射镀膜机

AP-MMS1小型磁控溅射镀膜机

品牌:韩国ECOPIA
型号:AP-MMS1
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金/碳镀膜机

金/碳镀膜机

  • 品牌: 美国Denton Vacuum
  • 型号: Desk V HP
  • 产地:美国
  • 产品简介蒸发膜的厚度分布蒸发源的排放分布特性可用于确定真空室中用于生产均匀厚度涂层的正确几何形状。在大孔径衬底上或者在装载有许多小衬底的架子上生产均匀厚度的涂层可以通过对装有测试件的架子进行重复试验来完成。从一次试运行到下一次试运行,有意改变了几何形状 - 例如蒸发源的偏移量增加了,直到找到最佳排列。在本文中,我们首先测量了位于已知径向距离处的测试件上的涂层的厚度,在真空蒸发室中的单个旋转平板架上,并使用这些数据来查找源发射函数。然后使用已知的发射函数来确定在直径上产生最佳厚度均匀性的源偏移和弧线曲率。 更低的成本...更高的投资回报率 离子辅助沉积可提供高要求的光学应用所需的高品质,无缺陷,低应力,环境稳定(无漂移)的薄膜。您将受益于:独立控制离子电流密度和离子能量以优化薄膜性能长期运行,100%氧气或氮气反应气体稳定运行,延长运行时无过程漂移冷阴极离子源是差分泵浦器件,等离子体腔室的一端通向真空环境。离子源的操作参数和薄膜的质量受控制真空度的参数的影响。在抽速很高的系统中制作好的薄膜要容易得多。当比较IAD薄膜沉积参数时,压力的差异可能是由泵浦速率引起的。要了解泵浦速率对冷阴极离子源的影响,请下载我们的技术文章 download our technical paper.Desk V HP 专用电子显微镜样品制备– 金/碳镀膜机特点(SEM / TEM / FE-SEM) ● 内置泵系统● 极短的沉积时间● 一致的沉积参数● 图形界面彩色触摸板● 薄膜厚度控制● 样品清洁的蚀刻模式● 多样靶材材料选择● 更多可选功能 

镀膜机招标信息

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