韦德国际1946手机版

中国仪器网

欢迎您: 请登录 免费注册 仪器双拼网址:yiqi.com
官方微信
中国仪器网

镀膜机

赛默飞世尔
中国仪器网/ 韦德国际1946手机版/ 实验室常用设备/ 其它/ 镀膜机
镀膜机

镀膜机概述

镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面,通过成膜过程形成薄膜。溅射镀膜,利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。
上海三研 SYDC-100M 多层型浸渍提拉镀膜机

上海三研 SYDC-100M 多层型浸渍提拉镀膜机

品牌:上海三研
型号:SYDC-100M
ETD-100AF 热蒸发镀膜机

ETD-100AF 热蒸发镀膜机

品牌:北京博远
型号:ETD-100AF
真空镀膜仪

真空镀膜仪

品牌:美国泰德派勒
型号:108 Manual
AP-MMS1小型磁控溅射镀膜机

AP-MMS1小型磁控溅射镀膜机

品牌:韩国ECOPIA
型号:AP-MMS1
PTL-MM02程控提拉涂膜机

PTL-MM02程控提拉涂膜机

品牌:沈阳科晶
型号:PTL-MM02
镀膜机查询条件
产品品牌
更多品牌
产品产地
不限 中国大陆 大洋洲欧洲亚洲美洲
厂商性质
不限 生产商授权代理商一般经销商
销售地区
江苏山东上海北京安徽浙江福建广东广西海南湖北河南江西天津河北山西宁夏西藏青海陕西四川云南贵州甘肃辽宁吉林黑龙江内蒙古香港台湾澳门湖南重庆新疆
不限
展开更多选项
镀膜机产品列表
排列样式:
  • >
上海三研 SYDC-500型 浸渍提拉镀膜机

上海三研 SYDC-500型 浸渍提拉镀膜机

上海三研 SYDC-200型 浸渍提拉镀膜机

上海三研 SYDC-200型 浸渍提拉镀膜机

Dipcoater浸渍镀膜机

Dipcoater浸渍镀膜机

真空镀膜仪

真空镀膜仪

  • 品牌: 美国泰德派勒
  • 型号: 108 AUTO
  • 产地:美国
  • 英国CRESSINGTON 108 Auto是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。

手动镀金仪

手动镀金仪

  • 品牌: 美国泰德派勒
  • 型号: 108
  • 产地:美国
  • 品牌:英国Cressington 108 manual是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。

自动(镀)金仪

自动(镀)金仪

  • 品牌: 美国泰德派勒
  • 型号: 108
  • 产地:美国
  • 108 Auto是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。

自动镀碳仪

自动镀碳仪

R&D Cluster tools 研发用团簇

R&D Cluster tools 研发用团簇

  • 品牌: 美国MVSystems
  • 型号: Cluster
  • 产地:美国
  • R&D Cluster tools 研发用团簇PECVD PVDR&D Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8个腔室的团簇型沉积系统30x40cm substrate衬底尺寸为30x40cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行?PECVD, HWCVD and Sputter capability 制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积,及溅射。

制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备

制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备

  • 品牌: 美国MVSystems
  • 型号: SiNx-PECVD
  • 产地:美国
  • 用于制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备 MVSSilicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar CellsThroughput: >475 wafers/hrSiNx uniformity: < ?5%产率:>475硅片/小时。氮化硅膜不均匀性:< 5%。

在线式HIT用PECVD MVS

在线式HIT用PECVD MVS

  • 品牌: 美国MVSystems
  • 型号: HIT-PECVD
  • 产地:美国
  • 在线式HIT用PECVDIn-Line PECVD system for HIT junctions用于制备高效异质结太阳电池的直线型等离子体化学气相沉积系统Throughput: 18 wafers (6”)/cycle产率:18片6硅片/循环

卷对卷柔性薄膜沉积设备 MVS

卷对卷柔性薄膜沉积设备 MVS

  • 品牌: 美国MVSystems
  • 型号: Reel to Reel Cassette System
  • 产地:美国
  • 卷对卷柔性薄膜沉积设备Cassette houses flexible material卷筒用于装载柔性衬底材料Cassette transported from one process chamber to another via a robotic handler制备薄膜时,卷筒可由真空机器手从一个腔室输送至另一个腔室Advantages 此沉积系统的优点- Eliminates cross-contamination 在制备多层膜器件时消除了交互掺杂影响- Flexibility to adjust parameters on any part of the process. 制备薄膜时,能灵活控制各种运转沉积参数- Down time reduced, i.e. each chamber can be serviced independently 因每个腔室可单独维护,减少了停机非运转时间Reel to Reel Cassette Cluster toolsCluster tool w/ 8 port locations具有8个腔室的团簇型沉积系统15cm and 30cm webwidth柔性衬底的宽度可从15cm至30cmComputer controlled可完全由电脑程序控制操作运行PECVD, HWCVD and Sputter capability制备方式包括等离子体和热丝化学气相沉积,及溅射(US patent #6,258,408B1)(本产品获美国专利#6,258,408B1)

热丝CVD设备HWCVD MVS

热丝CVD设备HWCVD MVS

  • 品牌: 美国MVSystems
  • 型号: MVS
  • 产地:美国
  • 热丝薄膜沉积设备MVSystems 公司设计,制造和提供各类单腔室和多腔室薄膜沉积设备。另外,根据用户的需求,各种PECVD,HWCVD,和PVD腔室可以单个制造,也可配备到现有的团簇型(星型)或是直线型沉积系统。MVSystems具有制造用于各类研发,中试以及小型生产设备的强大能力和丰富经验,所生产的设备已成功地使用在全世界23个国家的韦德国际1946手机版,研究院所和公司。我们公司的工程部门可最大限度地为用户着想, 以使用户们获取他们最需要的且价格合适的设备。作为设备销售的一部分,我们还能向用户保证薄膜半导体材料具有最佳光电子性能参数。这些材料包括非晶硅,纳米硅(微晶硅),介质材料(比如氮化硅和氧化硅)和透明导电膜。其他业务 MVSystems 公司拥有各类研发设施和技术人员,具备开发各种光电子薄膜技术的能力。研发: 可以为全球的韦德国际1946手机版,政府研究机构和公司提供服务。代工服务: 使用计算机控制的大面积团簇型(星型)等离子辉光放电(PECVD)/溅射系统,MVSystems 公司可以为用户提供如下各类薄膜材料和器件,包括:非晶硅本征和掺杂(n+ and p+ 型)膜。纳米(或者微晶)硅 (本征和掺杂)膜。介质材料(如SiNx, SiOx)。透明导电薄膜 (如ITO,AZO)。太阳电池,非晶硅薄膜晶体管,电子成像和存储器件等。研发设施: 在公司实验室内配置了具有高度安全性的监测系统用于监控和处理各类危险有毒气体,比如硅烷等。(1) 大面积团簇型薄膜沉积系统:最大衬底面积可达30厘米×40厘米,具有6个PECVD腔室(配有射频,甚高频电源以及具有脉冲调制功能)和1个双靶位溅射系统(配有直流和射频电源),以及多片仓位功能。整个操作可由电脑控制。(2) 热蒸发系统用于制作金属电极。(3) 太阳电池测试系统:配有符合AM1.5G光谱的氙灯光源。可用于测量电池的光暗I-V曲线和量子效率。也可用作测试各类半导体薄膜的光暗电导率以及γ参数。(4) 电导率激活能测试系统。(5) 红外光谱测试仪。(6) 紫外至红外光的透射和反射测量仪,配置有积分球。(7) 椭偏仪用于测量薄膜厚度和介电常数。(8) 台阶仪用于测量薄膜厚度。(9) 光发射谱仪用于实时监控等离子体过程。(10) 各种光源,滤波片,示波仪,显微镜以及其它实验室通用仪器。

奥匹维特 高真空电阻蒸发镀膜设备

奥匹维特 高真空电阻蒸发镀膜设备

PECVD沉积

PECVD沉积

  • 品牌: 美国Trion
  • 型号: Minilock-Orion III PECVD
  • 产地:美国
  • PECVD沉积Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),或者多尺寸批处理基片(4x3”; 3x4”; 7x2”)。Minilock-Orion III用于有毒/发火PECVD工艺。沉积薄膜:氧化物、氮氧化物、氮化物、无定形硅和碳化硅。工艺气体:100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷、氧化亚氮、氧、氮、三甲基硅烷和甲烷。该系统可选配一个三极管(Triode)或电感耦合等离子(ICP)源。三极管源使得用户可以创建高密度等离子,从而控制薄膜应力。基片通过预真空室装入工艺室,其避免了与工艺室以及任意残余沉积副产品接触,从而提高了用户的安全性。预真空室还使得工艺室始终保持在真空下,从而保持反应室与大气隔绝。

AT-400 原子层沉积

AT-400 原子层沉积

  • 品牌: 美国ANRIC
  • 型号: AT-400
  • 产地:美国
  • 原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此,它是一种真正的“纳米”技术,以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。由于ALD利用的是饱和化学吸附的特性,因此可以确保对大面积、多空、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形的均匀沉积。

Bench-Top Plasma Tool

Bench-Top Plasma Tool

  • 品牌: 美国AGS Plasma
  • 型号: AGS TT-RIE/CVD/PECVD
  • 产地:美国
  • AGS Plasma Systems, Inc.Now Celebrating Our 25th year! 美国AGS公司成立于1991年,在等离子系统领域已有25年的历程,是一家历史悠久的等离子系统供应商,提供的真空等离子系统主要应用于图案转换中薄膜沉积,刻蚀,如微电子,MEMS,光伏,光电,纳米科技等行业领域。2012年Semicon West ,AGS公司推出一个新型的,桌面式 TT-150RIE/CVD 系统,非常经济实用,对世界各地韦德国际1946手机版,研究所来说这样如此特色的RIE和CVD应用是非常完美的。模块化的TT-150适合半导体MEMS,TFT,PV的2寸---6寸应用。AGS TT 等离子系统在一个平台上提供了所有的功能特征RIE,PECVD,和等离子刻蚀PE都能在一个易操作,低维护,实用简单的平台上实现,同时可以根据您的工艺要求升级您的需求当您需要更换工艺技术是,腔体的部件,材料,进气装置提供更多的工艺扩展AGS依靠公司丰富的经验为新工艺开发提供低成本的先进的技术资源便于提前研发先进的领域技术桌面式,占地面积小,节省实验室空间工艺控制简单,易于使用者操作兼容等离子刻蚀PE和PECVD,成本低

HMDS真空镀膜机

HMDS真空镀膜机

  • 品牌: 上海实贝
  • 型号: HMDS-090-DM
  • 产地:
  • HMDS真空镀膜机一、HMDS真空镀膜机的预处理系统的重要性在半导体生产工艺中,光刻是至关重要的一个工艺环节,而涂胶工艺的好坏,直接影响到光刻的质量,所以涂胶也显得尤为必要,尤其在所刻线条比较细的时候,任何一个环节有一点纰漏,都可能导致光刻的失败。在涂胶工艺中,所用到的光刻胶绝大多数是疏水的,而晶片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,如果在晶片表面直接涂胶的话,势必会造成光刻胶和晶片的粘合性较差,甚至造成局部的间隙或气泡,涂胶厚度和均匀性都受到了影响,从而影响了光刻效果和显影。为了解决这一问题,涂胶工艺中引入了一种化学制剂,即HMDS,它的英文全名叫Hexamethyldisilazane(HMDS),化学名称叫六甲基二硅氮甲烷,把它涂到硅片表面后,通过加温可反应生成以硅氧烷为主题的化合物,这实际上是一种表面活性剂,它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起到耦合的作用,再者,在显影的过程中,由于它增强了光刻胶与基底的粘附力,从而有效地抑制刻蚀液进入掩模与基底的侧向刻蚀。 最初,人们用液态的HMDS直接涂到晶片上,然后借着晶片的高速旋转在晶片表面形成一层HMDS膜。这样就阶段性的解决了基片和光刻胶之间的结合问题,但随着光刻线条的越来越细,胶的越来越薄,对粘附力提出了更高的要求,于是我们研制出了现在的HMDS预处理系统。二、 HMDS预处理系统的优越性(1)预处理性能更好,是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理,所以不会有尘埃的干扰,再者,由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺,同一个容器中进行,晶片在容器里先经过100℃-200℃的去水烘烤,再接着进行HMDS处理,不需要从容器里传出,而接触到大气,晶片吸收水分子的机会大大降低,所以有着更好的处理效果。(2)处理更加均匀。由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液态涂布不可比拟更好的均匀性。(3)效率高。液态涂布是单片操作,而本系统一次可以处理多达多盒的晶片。(4)更加节省药液。实践证明,用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理多盒晶片所用药液还多;(5)更加环保和安全,HMDS是有毒化学药品,人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等,由于整个过程是在密闭的环境下完成的,所以不会有人接触到药液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机,所以也不会对环境造成污染。三、系统结构整个系统由加热、真空系统、充氮、加药和控制模块等5部分组成。1.加热模块由于工艺的整个过程都需要在150℃左右的环境下进行,所以自始至终加热系统都在工作。本系统采用在腔体外侧加热,采用人工智能PID调节仪实现闭环控制,调节仪控制固态继电器的输出,从而实现温度的精确稳定控制,测温采用通用的高精度热敏电阻Pt100。2.真空模块由机械泵、真空组件、真空测量等组成,主要作用是置换气体和抽走剩余的HMDS蒸汽,不再赘述。3.充氮模块作用是在置换过程中,用氮气来逐渐稀释空气或药液蒸汽,从而最终替换空气或药液蒸汽的气氛。主要由氮气源、控制阀和喷头组成。4.加药模块加药模块的作用是在需要的时候把药液变成蒸汽,均匀的涂布到晶片表面。它主要由药液瓶,接口、控制阀和喷头组成。5.控制模块控制模块是本系统的核心模块,它的作用是控制各个模块的动作和时序,完成整个工艺过程。它主要由人机界面,CPU控制中心,控制接口和输出部件,报警等5部分组成。人机界面采用台湾威纶通触摸屏来实现参数、状态等界面的显示和参数的设定输入。PLC采用三凌FX系列小型化PLC。6.软件组成整个控制软件共分4个部分,即自动运行、手动控制、参数设定、帮助。当按下自动运行键后,画面转换到运行画面,显示当前的工艺状态,运行时间等,同时系统开始运行。7.运行流程首先打开真空泵、开始抽真空、待腔内真空度达到某高真空度(该值可预设)后,开始充入氮气,充到达到某低真空度(该值也可预设)后的再次重复抽真空、充入氮气的过程,达到设定的充入氮气的次数后再次抽真空,然后充入药液,达到设定时间后,停止充入药液,进入保持阶段。当到达设定的保持时间后,再次开始抽真空、充入氮气,次数为设定值,当系统自动工作完成后,画面切换到结束画面,同时给出声光报警等待取片,在自动工作过程中若出现异常可点击运行画面中的停止键,随时终止程序的运行。流程控制:液晶触摸屏(台湾威纶通)、PLC控制(三菱),流程可编辑,可以预存5组程序。(可按照用户使用要求更改流程)氮气装置:氮气进入箱内有调压装置,控制有自动阀完成。HMDS装置:HMDS药液进入箱内采用压力差吸取瓶内HMDS方式,自动阀控制四、产品特征:1)设备外壳采用SS41粉末静电喷涂,内胆为不锈钢316L材质;采用无缝不锈钢加热管,均匀分布在内胆外壁,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置;内门采用钢化、防弹双层玻璃观察窗,便于观察工作室内物品实验情况。2)箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内保持高真空度。3) 采用微电脑PID控制,系统具有自动控温,定时,超温报警等,采用LCD液晶显示,触摸式按钮,简单易用,性能稳定.4)智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序、温度、真空度及每一程序时间。5)HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,使真空箱密封性能极好,确保HMDS气体无外漏顾虑。6)整个系统采用优质医用级316L不锈钢材料制作,无发尘材料,适用百级光刻间净化环境。 7)管路:SUS316洁净管8)隔板:SUS316材质四、HMDS真空镀膜机技术参数型号:HMDS-090-DM容积:90L加热方式:内腔体外侧加温控温范围:R.T.+10~200℃温度分辨率:0.1℃控温精度:±0.5℃隔板数量:2PCS真空度:常压~<133Pa或1TORR以下真空泵:抽气速度4升/秒,型号DM4电源:AC220/50HZ额定功率:3.0KW内胆尺寸mm:宽450*深450*高450外形尺寸mm:宽650*深640*高1250连接管:316不锈钢波纹管,将真空泵与真空箱完全密封无缝连接HMDS-210-DM真空镀膜机技术参数:电源电压:AC380V/50Hz输入功率:4000W控温范围:室温+10℃-200℃温度分辨率:0.1℃温度波动度:±0.5℃真空度:常压~<133Pa容积:210L内室尺寸(mm):560*640*600外形尺寸(mm):720*820*1425载物托架:3块时间单位:分钟

箱式溶剂干燥器

箱式溶剂干燥器

  • 品牌: 美国VAC
  • 型号: 箱式溶剂干燥器
  • 产地:美国
  • 箱式溶剂干燥器*根据配置,可在几分钟内干燥多达75 ml溶剂*Karl Fisher试验结果显示在THF中水氧含量小于10PPM*可为特定反应干燥定量溶剂*最大化减少溶剂损失*再生处理之前,一个柱子可运行5次*干燥柱易于开关*干燥介质可用户自行更换*干燥柱可用户自己完成再生*便捷的箱式设计消除了意外泄漏*无需真空泵*无需防火柜*无需惰性气体源*易于安装在任何干燥箱中

高分解离子束镀膜仪

高分解离子束镀膜仪

  • 品牌: 美国Gatan
  • 型号: 681
  • 产地:美国
  • 仪器简介:型号681离子束镀膜仪 用于扫描电镜和透射电镜的离子束镀膜系统 型号681离子束镀膜仪采用独特的离子溅镀技术得到连续,超薄,无定形像镀膜样品,非常适用场发射扫描电镜(FESEM)和透射电镜(TEM)的需要。与只能得到粗糙喷镀效果的传统镀膜技术如热蒸镀、电磁管或RF溅镀等相比,具有非常明显的优势。 两束离子源能够提供高速的溅镀速率,根据耙材、离子束强度和镀膜厚度的不同,镀膜时间范围从10秒到2分钟不等。 WhisperlokTM 机械装置能够在装样和换样时保持腔体的真空状态,避免再次抽真空,真正实现“快速换样”(<1分钟)。另一个重要特点是能够提供不同的样品旋转和摇摆速率,确保样品镀膜均一。 TEM WhisperlokTM 适配器(可选配)适用于所有TEM或SEM侧插样品载台的制造。如果需要,样品可以使用TEM生物冷冻样品载台在较低温度下镀膜。 多重耙材:耙材交换仪器可以在保持真空的情况下极短时间内选择两个可用耙材中的任意一个。增加第二个耙材交换仪器(可选配)即可再增加两个耙材,用户可以同时使用四个耙材中的任意两个。隐藏在腔体内的耙材完全与溅射污染物隔离。 Gatan离子束镀膜仪是一台具有便捷、高效以及可靠性特点的精密台式装置。通过它能够得到超细晶粒/非晶及非人工镀膜,能够满足高分辨率场发射电镜的更高要求。样品能够快速镀膜且只产生极小的热量。 可选配的测膜厚度仪(FTM)能够连续测量沉积速率并不断改进控制膜厚度。 规格: 离子源 离子枪 两个潘宁离子枪与微型稀土永磁体 离子束能量 1.0 KeV 到10.0 KeV 离子束直径 约1mm FWHM 离子电流密度 峰 10mA/cm2 气体流量 氩气 0.1cc/分/枪 Airlock组装 样品载台 接纳1英寸(31mm)金相套和多种SEM短截线 样本旋转速率 可变速率10-60rpm 样品倾斜角度 固定角度或可变摇摆角度(0° - 90°) 样品摇摆速率 可变速率5°/秒 - 36°/秒 选配 用于侧插TEM的TEM适配器或SEM样品载台 镀膜 镀膜速率 10.0KeV下约0.5 /秒 碳 及 1.5 /秒 铬 镀膜范围 均匀直径超过1英寸 耙材装置 一方双重耙材,可在真空状态下从外直接选择耙材 耙材材质 四种耙材选择(见详细清单) 真空 干燥泵系统 两个部分,隔膜泵搭配一个60 升/秒分子泵 真空计 样品腔冷阴极规,搭配固态压力传感器 样品调换 Gatan专利 WhisperlokTM,样品更换时间<1分钟 液态氮阀 约5小时容量(标准) 尺寸及功率 总尺寸 560mmW x 480mmD x 430mmH (22W x 19D x 17H) 货运重量 45kg (100 lbs) 电源要求 通用电压 100VAC-240VAC,50/60Hz 用户需确定电源型号以保证正确的线路 能量消耗 运行时需200瓦特,离子枪关闭时需100瓦特 气体需求 氩气 70psi (4.82 bar) 保修 一年

多发射极晶体管刻蚀

多发射极晶体管刻蚀

  • 品牌: 美国Gatan
  • 型号: 683
  • 产地:美国
  • 仪器简介:型号683金属刻蚀 离子束刻蚀金相材料的制备 金相刻蚀仪提供一个离子束刻蚀是有多功能的PECS系统的一种功能。其成本经济,价格适宜,且使用新一代仪器制备金相样品时不需要溅射镀膜。典型应用包括扫描电子显微镜(SEM或高分辨率FESEM)和光学显微镜(LM)。高质量样品在一个干净的环境中制备,过程可控且结果可重复。离子束刻蚀技术可以避免湿化学刻蚀所带来的危险及消耗。金相刻蚀仪提供众多独具特色技术比如682.40000斜面切割工具,适用于横截面切割方面的特殊工具。 化学刻蚀的替代或补充 简易使用可重复的结果与控制 减少样品处理 无样品污染 高样品生产量,专利Whisperlok能快速、简单进行样品交换 Whisperlok具有使样品同时旋转和摇动保证刻蚀和镀膜均匀的特点 低成本的所有权 反应离子束刻蚀(RIBE系统) 无化学处理或操作安全

682.400斜面切割工具

682.400斜面切割工具

  • 品牌: 美国Gatan
  • 型号: 682.400
  • 产地:美国
  • 仪器简介:可选配斜面切割工具 型号682.40000斜面切割工具(SC-Tool)- 提供均质/非均质材料横截面可组合切割并最小化减少其机械变形或损坏。 规格: 离子源 离子枪 一个潘宁离子枪与微型稀土永磁体 离子束能量 1.0 KeV 到10.0 KeV 离子束直径 5mm FWHM 离子电流密度 峰 10mA/cm2 气体流量 氩气 0.1cc/分/枪 刻蚀范围 根据离子枪能量为7mm-10mm不等 刻蚀速率 10.0keV下,硅材料约10m/小时,钨材料约3m/小时 Airlock组装 样品载台 接纳1英寸(31mm)金相套和多种SEM短截线 样本旋转速率 可变速率10-60 rpm 样品倾斜角度 固定角度或可变摇摆角度(0° - 90°) 样品摇摆速率 可变速率5°/秒 - 36°/秒 选配 用于侧插TEM的TEM适配器或SEM样品载台 真空 干燥泵系统 两个部分,隔膜泵搭配一个70 升/秒涡轮泵 压力 5E-6 托(6.6E-4Pa)基本压力 6E-5 托(8E-3Pa)工作压力 真空计 样品腔冷阴极规,搭配固态压力传感器 样品调换 Gatan专利 WhisperlokTM,样品更换时间<1分钟 活性碳过滤器 真空排气装置,以减少碘蒸汽排放到安全标准 尺寸及功率 总尺寸 560mmW x 480mmD x 430mmH (22W x 19D x 17H) 货运重量 45kg (100 lbs) 电源要求 通用电压 100VAC-240VAC,50/60Hz 用户需确定电源型号以保证正确的线路 能量消耗 运行时需200瓦特,离子枪关闭时需100瓦特 气体需求 氩气 70psi (4.82 bar) 替代气体(其它惰性)20psi (1.38 bar) 碘蒸汽用于反应离子束刻蚀(结晶碘由用户自行提供) 保修 一年 斜面切割工具 斜面切割工具是标准PECS载台的一个直接替代工具 Gatan的精密刻蚀镀膜仪(PECS)是一个多功能的仪器,根据操作条件和参数提供各种功能应用于透射电镜和扫描电镜。这些特点包括离子束清洗、平滑、细化、选择性刻蚀、溅射镀膜和斜面切割。单独使用斜面切割得不到高质量图像适应当今扫描应用所需;但当配合使用PECS,其独特切割、刻蚀和镀膜一体的特点使得样品图像具有高清晰度和高质量。 什么是离子束斜面切割? 斜面切割技术是一个样品使用平行离子溅射后,再由一个屏幕观测器检测其明显边界,在未溅射部分与溅射部分之间进行斜面切割。这个斜面切穿材料而且无变形。使用离子束切割的时候,因为离子束是从上方打下来,不可以选择刻蚀的区域。无论什么样的材料,都可以被切割成一个平滑的表面。摇动样品可避免折皱。 斜面切割基本原理 斜面切割使用的材料: l 难刨光软性材料:铜、铝、金、铅或无铅焊料。 l 难切割硬性材料:陶瓷、碳化物和这些材料的复合材料。 由斜面切割工具制得的横截面部分适合于能谱仪、波谱仪、螺旋钻和EBSD分析、观察和测量,也适合多层结构测量。 离子束斜面切割表面可以进一步改进离子束额外的加工步骤。定向短离子特定轰击斜面有助于消除再沉积,也有助于选择性刻蚀切割面以增强内部颗粒和相结构的清晰度。 型号682 PECS斜面切割 PECS斜面切割技术 PECS斜面切割在横截面刨光类(CP)工具中具有多重优点。 离子束加工三个步骤: 步骤一:斜面切割 步骤二:选择性刻蚀 步骤三:如需要溅射镀膜 步骤一 斜面切割 PECS的优点: 1. 切割90° 横截面部分(半导体) 2. 切割45° 横截面部分(均相/非均相) 3. 切割30° 横截面部分(均相/非均相) 4. 长切割长度 8mm(相对于1.5mm) 5. 切割的深度由以下因素决定 l 离子束电压(2.5keV - 10.0keV) l 离子束电流(10.0keV下最大610 uA) l 材料 l 时间 6. 由于PECS斜面切割工具不能破坏初级上层表面因此使用3D观测器观察各相异性固相结构,进一步提高样品检测结果: l SEM顶部观测(初级表面) l SEM观察切割斜面 l SEM观察溅射范围 步骤二 选择性刻蚀(不适用于横截面刨光类工具) 1. 选择性离子束刻蚀和/或刨光 l 能够装饰切割表面 l 揭露内部颗粒/相结构 l 刻蚀确定表面分布 2. 离子束刻蚀可选择多种气体 l 氩气 l 疝气 l 氪气 l 碘蒸汽 步骤三 溅射镀膜(不适用于横截面刨光类工具) 1. 如需要溅射镀膜 2. 高分辨率显微镜离子束镀膜消除电荷 3. 超过20种耙材可供选择 PECS刻蚀和斜面切割应用 1. 控制样品去除材料时无机械损伤(深度压型或免除机械损坏)。 2. 通过惰性气体或反应离子选择性离子束刻蚀多晶体和不同种类材料的颗粒,相,缺陷结构。 3. 离子束斜面切割(IBSC)对于大部分试样材料(金属、合金、复合材料、半导体、陶瓷、高分子、生物材料),都可以在显微镜下精确选定的位置无损切割任何所需角度的表面。 l 界面(硬/软材料组合) l 层体系(厚、薄膜技术) l 改进近表面地区(如变形、放射或腐蚀) l 微观结构(集成电路、化学键接触) l 非大量材料(多孔材料、金属丝、粉末、独立的金属箔片)。 4. 扫描电镜中观察所用的绝缘体需通过离子束溅射镀膜覆盖来导电或为了其他原因(离子束斜面切割之前样品表面需镀膜用以保存或标明原样品表面)。 一般同类产品的工具其特殊功能只有一个 - 离子束垂直切割通过不同种类样本。而PECS则不同,它可以随意选择刻蚀或溅射镀膜工艺。和其他工具相比PECS具有多功能、多重处理功能的特点,各类样品和应用领域都可以使用,并且PECS还可以容纳更大尺寸的样品。

伯东公司德国普发Pfeiffer真空镀膜机

伯东公司德国普发Pfeiffer真空镀膜机

  • 品牌: 德国普发真空
  • 型号: classic
  • 产地:德国
  • 伯东公司授权代理德国普发pfeiffer 镀膜机-灵活设计适合技术研究、开发和生产,可实现高真空蒸发镀膜,磁控溅射镀膜,离子镀.Pfeiffer Classic 系列镀膜机(高真空镀膜系统)经过大量实验和技术知识积累研发设计,通过ISO 9001认证, ISO 14001认证,低能耗主要应用领域: 半导体,光学,微电子学,显示屏,光电工程,表面处理等行业.Pfeiffer 镀膜机主要型号包含:Pfeiffer Classic 250 镀膜机(科研,小型研发)Pfeiffer Classic 500 镀膜机(科研,小规模生产)Pfeiffer Classic 570 镀膜机 (批量生产)Pfeiffer Classic 580 镀膜机 (生产线大批量生产)Pfeiffer Classic 590 镀膜机 (高吞吐量,通用的制造系统,满足最高工业需求)Pfeiffer Classic 620 镀膜机 (最大吞吐量)伯东公司pfeiffer 德国普发镀膜机 Classic 500,选用pfeiffer分子泵 Hipace 700,可定制,我司将竭诚为您服务pfeiffer 德国普发镀膜机 Classic 500 技术参数:真空腔体容量150 l内部尺寸500 mm高度575 mmDoor OpeningW x H 500 x 575 mm整机漏率<1x10-5 mbar x l /s最终压力<5x10-7 mbar高真空泵组(标准型)分子泵Hipace 700隔膜泵MD4旋片泵DUO 20真空测量全量程真空计电源电压3 x 400 V频率50/60 HZ水冷Chamber Usage approx (a)500 l/hPump Set Usage approx (a)15 l/h进气温度25 °C压力4 6 barIn- and Outlet Nipple3/4"Hot WaterChamber Usage approx (a)500 l/h进气温度70 °C压力4 6 barIn- and Outlet Nipple3/8"尺寸占地面积1.4 m2L x W x H1,4 x 1 x 1,9 m重量600 kg最大环境温度40 °C伯东公司 主要经营产品 德国 Pfeiffer 涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵; 应用于各种条件下的 真空测量(真空计, 真空规管); 氦质谱检漏仪;质谱分析仪;真空系统以及 Cryopump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请登录我们网站: www.hakuto-vacuum.cn或与市场部: 叶南 小姐联系Tel: 86-21-5046-3511转106Fax: 86-21-50461490Mobile: 86 13816124243E-mail: ec@hakuto-vacuum.cn

伯东公司真空镀膜机

伯东公司真空镀膜机

  • 品牌: 德国普发真空
  • 型号: pfeiffer classic系列
  • 产地:德国
  • 伯东公司德国普发pfeiffer 镀膜机-灵活设计适合技术研究、开发和生产,可实现高真空蒸发镀膜,磁控溅射镀膜,离子镀.Pfeiffer Classic 系列镀膜机(高真空镀膜系统)经过大量实验和技术知识积累研发设计主要应用领域: 光学,微电子学,显示屏,光电工程,生物医学工程等行业.价格电议:021-50463511Pfeiffer 镀膜机主要型号包含:Pfeiffer Classic 250 镀膜机(低成本实验室系统,用于开发研究)Pfeiffer Classic 500 镀膜机(最受欢迎的镀膜机,用于系统研究、开发和批量生产)Pfeiffer Classic 570 镀膜机 (紧凑设计适合工业使用)Pfeiffer Classic 580 镀膜机 (通用的制造系统,满足最高工业需求)Pfeiffer Classic 590 镀膜机 (高吞吐量,通用的制造系统,满足最高工业需求)Pfeiffer Classic 620 镀膜机 (最大吞吐量)pfeiffer 镀膜机主要优势:可搭配多种泵组(涡轮分子泵、低温泵或油扩散泵)pfeiffer 镀膜机真空腔体可冷却可加热,极限真空度最高可达 < 5 10-7 mbar,腔体漏率 < 1 10-5 mbar l/s真空腔体大小 35 至 1300 l(特殊尺寸可定制)镀膜机各种尺寸大小,根据实际应用和气体吞吐量决定内置各种标准配件,坚固耐用满足严苛工业环境低运营成本,易维护,兼容洁净室通过附加配件升级镀膜机功能pfeiffer 镀膜机所有真空腔体均是不锈钢材质pfeiffer 镀膜机工艺:pfeiffer 镀膜机蒸镀过程优势:抗反射涂层耐划伤性涂料激光面镜接触金属化合金的沉积(Co-evaporation)pfeiffer 镀膜机磁控溅射介绍:除了高真空蒸镀系统,伯东公司德国普发pfeiffer 也提供磁控溅射腔体可选load-lock.相应型号Classic 250 to 570,有标准版本供选择或根据溅射过程选择(SP)定制版本可用于:金属层(金、铜、铝、铬、…)电介质层(二氧化硅,氧化铝,…)透明导电层(ITO磁层合金的沉积(co-sputtering)伯东公司 主要经营产品 德国 Pfeiffer 涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵; 应用于各种条件下的 真空测量(真空计, 真空规管); 氦质谱检漏仪;质谱分析仪;真空系统以及 Cryopump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源.伯东公司协助客户选型并提供完善的售后服务,我司将竭诚为您服务!若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请登录我们网站: www.hakuto-vacuum.cn或与市场部: 叶南 小姐联系Tel: 86-21-5046-3511转106Fax: 86-21-50461490Mobile: 86 13816124243E-mail: ec@hakuto-vacuum.cn

108镀膜仪

108镀膜仪

  • 品牌: 美国泰德派勒
  • 型号: 108Auto
  • 产地:美国
  • 技术参数:l自动的换气与泄气功能,可以得到一致的膜厚,和最佳的导电喷镀效果。l通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程,避免样品表面受损。l操作容易快捷,可全自动或手动进行喷镀操作,控制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。l在自动模式下,可通过两种方式进行控制镀膜过程。可通过数字显示器控制得到可重现的喷镀效果,l数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响,可得到一致的镀膜速率和最佳的镀膜效果。l可使用多种金属靶材:Au,Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd(Au靶为标配),靶材更换快速方便。l样品室大小:直径120mmx120mm高(4.75x4.75")l样品台:可以装载12个SEM样品座,高度可调范围为50mml溅射控制:微处理器控制,安全互锁,可调,最大电流40mA,程序化数字控制l溅射头:低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩l模拟计量:真空:Atm-0.001mbar,电流:0-50mAl控制方法:自动气体换气和泄气功能,自动处理排序,带有“暂停”控制的数字定时器(5-300s),自动放气.整个操作亦可全手动控制。l真空泵:原装进口,抽气速率:6.0m3/小时,真空度到0.1mb所需时间30秒.l桌上系统:真空泵可置于抗震台上,全金属集成耦合系统l保修期:免费保修一年

VTC-200真空旋转涂膜机

VTC-200真空旋转涂膜机

  • 品牌: 沈阳科晶
  • 型号: VTC-200
  • 产地:
  • VTC-200真空旋转涂膜机主要应用于大专院校、科研院所的实验室中的薄膜形成。本机利用高速旋转使粘滞系数较大的胶体、溶液等材料均匀地涂覆在样件表面。主要特点1、二段程序控制速度。2、真空吸附方式固定样件,操作简便。3、采用铸铝结构,运行稳定、噪音低。技术参数1、功率:70W2、转速:500-6000rpm3、时间:1-60s4、真空泵流速:>60L/min产品规格尺寸:500mm×400mm×400mm重量:30kg标准配件1、真空吸盘2、滴液器3、无油真空泵可选配件过滤器(真空泵用)

VTC-200P真空旋转涂膜机

VTC-200P真空旋转涂膜机

  • 品牌: 沈阳科晶
  • 型号: VTC-200P
  • 产地:
  • VTC-200P真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。主要特点1、二段程序控制速度。2、真空吸附方式固定样件,操作简便。3、真空度最大可以达到-0.08MPa。4、使用定位工具可将样件很容易地放在中心位置,以减少偏心而造成的震动或飞片。5、根据样件规格可以配用不同的吸盘,且更换方便简单。6、电机启动快速稳定,可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。7、本机可置于手套箱内使用,但控制部分与真空泵需置于箱外。技术参数1、功率:350W2、转速:500-6000rpm3、时间:1-60s产品规格尺寸:Φ250mm×290mm重量:25kg标准配件1、真空吸盘2、O型胶圈3、滴液器4、滴液器支架5、无油真空泵可选配件过滤器(真空泵用)

MSK-USP-04C超声喷雾热解涂膜机

MSK-USP-04C超声喷雾热解涂膜机

  • 品牌: 沈阳科晶
  • 型号: MSK-USP-04C
  • 产地:
  • MSK-USP-04C超声喷雾热解涂膜机采用步进电机和微处理器来控制容积泵来精确输送溶剂。一个超声波雾化器可以制备厚度较薄的微纳米涂层,并且由一步进电机控制可在X轴和Y轴方向移动,以确保涂层的均匀性。同时基底温度可以进行控制,以满足实验需要。主要特点喷雾热解制膜法,是将溶液雾化后喷涂到加热的基底上,然后在基底上得到想得到的物质结构。此种材料制备方法特别适用于沉积氧化物,而且在制备透明电极的应用中已有相当长的历史。现在这种方法在制备钙钛矿型太阳能电池中得广泛应用。技术参数1、电源:220V 50Hz/60Hz2、超声波雾化器:50KHz 100W 3、喷雾器在X轴和Y轴行程:1mm-200mm4、喷雾器移动速度:X轴方向10mm/s-800mm/s,Y轴方向10mm/s-100mm/s5、涂层间距:1mm-100mm6、Z轴高度最大调节量:60mm7、加热器平台:350mm×220mm 8、最高可加热温度:500℃9、标配注液器容积:20ml10、注液泵装载:直径不超过Φ30mm的注液器  11、注液速度:0.1mm/min-45mm/min,微调速度0.01mm/min-8mm/min12、行程设置范围:0.001mm-120mm产品规格尺寸:主机1550mm×750mm×750mm,注射泵250mm×225mm×170mm

钙钛矿镀膜机

钙钛矿镀膜机

  • 品牌: 沈阳科晶
  • 型号: 钙钛矿镀膜机
  • 产地:
  • 钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作,广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。主要特点1、样品位于真空室上方,蒸发源位于真空室下方,向上蒸发镀膜,且蒸发源带有挡板装置。2、设有烘烤加热功能,可在镀膜过程中加热样品,最高烘烤加热温度为180℃。3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。技术参数1、镀膜室:不锈钢材料,采用方形前后开门结构,内带有防污板,腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm2、真空排气系统:采用分子泵+机械泵系统3、真空度:镀膜室极限真空≤6×10-4Pa4、系统漏率:≤1×10-7Pa5、蒸发源:安装在真空室的下底上;有机蒸发源4个、容积5ml,2台蒸发电源,可测温、控温,加热温度 400℃,功率0.5KW;无机蒸发源4套、容积5ml,2台蒸发电源,加热电流300A,功率3.2KW;蒸      发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启6、样品架:安装在真空室的上盖上,可放置?120mm的样品、载玻片,旋转速度0-30rpm7、加热温度:RT-180℃,测温、控温8、膜厚控制仪:石英晶振膜厚控制仪,膜厚测量范围0-999999A

PTL-MMB02毫米级恒温程控提拉涂膜机

PTL-MMB02毫米级恒温程控提拉涂膜机

  • 品牌: 沈阳科晶
  • 型号: PTL-MMB02
  • 产地:
  • PTL-MMB02毫米级恒温程控提拉涂膜机是专门为在液相中提拉涂膜而设计的。在恒温环境下,通过垂直提拉液相中的样件生长薄膜。主要特点1、采用PLC程序控制,控制界面简单清晰。2、在恒温环境下进行提拉涂膜,有利于薄膜形成及固化。3、操作简单,安全可靠。4、已通过CE认证。技术参数1、提拉速度:1-200mm/min2、速度稳定性:±0.05% 3、温度:RT-100℃4、样件尺寸:75mm×25mm×2.5mm产品规格尺寸:450mm×500mm×970mm标准配件1、涂膜卡具2、料杯3、提拉丝

PTL-NMB纳米级恒温提拉涂膜机

PTL-NMB纳米级恒温提拉涂膜机

  • 品牌: 沈阳科晶
  • 型号: PTL-NMB
  • 产地:
  • PTL-NMB纳米级恒温提拉涂膜机是以纳米为计量、专为在液相中提拉涂膜而设计的,通过垂直提拉在液相中的样件而生长薄膜。本机采用PLC程序控制系统,以彩色触摸屏为数据输入输出端,显示提拉速度、提拉高度、提拉往返次数、间隔时间等参数。主要特点1、采用彩色触摸屏,界面清晰,方便参数设置。2、提拉涂膜的全过程在恒温温度场内进行,有利于薄膜形成及固化。3、操作安全可靠,简单易懂。4、已通过CE认证。技术参数1、电源:220V2、提拉速度:1-500nm/s3、速度稳定性:±0.05%4、温度:RT-100℃5、样件尺寸:75mm×25mm×2.5mm产品规格尺寸:450mm×500mm×970mm标准配件1、涂膜卡具2、载料杯3、提拉丝

MSK-AFA-I自动涂布机

MSK-AFA-I自动涂布机

  • 品牌: 沈阳科晶
  • 型号: MSK-AFA-I
  • 产地:
  • MSK-AFA-I自动涂布机广泛用于各种高温涂膜研究,例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜,能够适应未来高温条件下成膜技术的发展。主要特点1、涂覆速度可调,并设有数字显示。2、可调限位开关控制涂覆行程。3、采用真空吸附方式固定基片,可快速取放基片。4、已通过CE认证。技术参数1、电源:220V2、功率:350W 3、涂覆速度:1mm/s-100mm/s可调4、涂覆行程:10mm-250mm5、真空铝板:365mm×200mm×30mm6、制膜器:150mm可调式,调整范围0.02mm-5mm产品规格尺寸:500mm×330mm×223mm重量:50kg标准配件1、横杆2、集料盒可选配件1、微米级可调制膜器-55mm2、微米级可调制膜器-100mm

MSK-AFA-II玻璃涂布机

MSK-AFA-II玻璃涂布机

  • 品牌: 沈阳科晶
  • 型号: MSK-AFA-II
  • 产地:
  • MSK-AFA-II玻璃涂布机广泛用于各种高温涂膜研究,例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜等。主要特点1、均匀涂布。2、已通过CE认证。技术参数1、电源:220V 350W2、涂布速度:1mm/s-100mm/s3、涂布行程:550mm4、玻璃板:600mm×300mm×20mm5、制膜器可调范围:0.02mm-5mm产品规格尺寸:805mm×430mm×223mm重量:42kg可选配件真空铝板(600mm×300mm×30mm)

MSK-AFA-II-VC自动涂布机

MSK-AFA-II-VC自动涂布机

  • 品牌: 沈阳科晶
  • 型号: MSK-AFA-II-VC
  • 产地:
  • 产品简介MSK-AFA-II-VC自动涂布机广泛用于各种高温涂膜研究,例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜等。主要特点1、均匀涂布。2、已通过CE认证。技术参数1、电源:220V 350W2、涂布速度:1mm/s-100mm/s3、涂布行程:550mm4、真空板:600mm×300mm×20mm5、制膜器可调范围:0.02mm-5mm产品规格尺寸:805mm×430mm×223mm重量:45kg可选配件1、真空泵2、制膜器

MSK-AFA-III小型流延自动涂膜烘干机

MSK-AFA-III小型流延自动涂膜烘干机

  • 品牌: 沈阳科晶
  • 型号: MSK-AFA-III
  • 产地:
  • MSK-AFA-III小型流延自动涂膜烘干机广泛用于各种高温涂膜研究,例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜,能够适应未来高温条件下成膜技术的发展。本机通过匀速推动精密制膜器,达到平滑、均匀的涂覆效果。采用真空吸附来固定基片,使得涂布过程中基片无褶皱现象,从而使得涂布更加顺畅。涂布后,上盖可对薄膜进行加热烘干,控温精度为±1℃。特别适合于固态电解质和锂电池极片的制备。主要特点1、设有自动烘干功能。2、采用真空吸附来固定基片。3、均匀涂布。技术参数1、电源:220V 350W2、涂布速度:1mm/s-100mm/s可调,精度10mm/s3、涂布行程:10mm-250mm可调4、真空铝板:365mm×200mm×30mm5、最高加热温度设置:100℃6、最大升温速率:10℃/min7、制膜器:150mm宽度可调式,调整范围0.02mm-5mm产品规格尺寸:550mm×330mm×320mm重量:50kg可选配件1、真空泵(120L/min单旋泵)2、微米级可调制膜器-55mm3、真空搅拌泵4、粘度仪

MSK-AFA-IV小型涂布机

MSK-AFA-IV小型涂布机

  • 品牌: 沈阳科晶
  • 型号: MSK-AFA-IV
  • 产地:
  • MSK-AFA-IV小型涂布机采用电气控制和机械的有机结合,可大量节省原料,改进工艺技术,方便在不同的基底上精确的涂布,减小以及消除了由于涂布速度、压力不同等人为因素造成的误差。主要用于胶类、纸类,薄膜类生产试验,也可用于其他相关的涂布、涂装行业。主要特点1、通过更换涂辊调节涂布厚度。2、通过旋钮调节涂布速度。3、采用进口零部件。4、均匀涂布。技术参数1、电源: 220V 50Hz2、功率: 50W 3、涂布速度:1-1200mm/min可调4、涂覆面积:420mm×350mm5、涂膜厚度:12μm-200μm(根据配用的涂辊决定)6、涂辊:Φ12mm×40mm产品规格尺寸:580mm×340mm×100mm重量:20kg可选配件1、可定做可调整厚度的涂膜器,最小厚度为5μm,调整精度1μm。2、涂膜厚度为12μm、15μm 、20μm 、25μm 、30μm 、40μm 、50μm 、60μm 、80μm 、100μm、 120μm 、150μm 、200μm的涂辊。

MSK-AFA-L800流延涂布机

MSK-AFA-L800流延涂布机

  • 品牌: 沈阳科晶
  • 型号: MSK-AFA-L800
  • 产地:
  • MSK-AFA-L800流延涂布机是利用真空吸盘和无油真空泵吸附固定基片,配合微米级可调式制膜器制备长度可达800mm的薄膜。设有独特的自动推进装置,可以在宽250mm、长800mm的范围内的任何材料上制备光滑的涂层,是低成本研发及制作18650电池电极材料的理想工具。主要特点1、采用横向推杆配合微米级制膜器。2、可调限位开关控制涂覆行程。3、采用真空吸附方式固定基片。4、涂覆速度可调。技术参数1、电源:110V/220V 50/60Hz2、功率:150W 3、涂覆速度:1-100mm/s可调4、涂覆行程:10-800mm5、真空铝板:800mm×260mm6、制膜器:250mm微米级可调式(可选择其他尺寸)7、最大制膜面积:800mm×250mm8、膜厚精度:±0.01mm产品规格尺寸:960mm×370mm×240mm重量:40kg可选配件1、无油真空泵(120L/min)2、其他尺寸的制膜器

镀膜机招标信息

对比栏隐藏对比栏已满,您可以删除不需要的栏内商品再继续添加!
您还可以继续添加
您还可以继续添加
您还可以继续添加
您还可以继续添加
您还可以继续添加