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电镜附件

电镜附件概述

电镜附件是插入或连接在电子显微镜上实现辅助功能的附属硬件或软件。用透射电子显微镜观察时的样品需要处理得很薄。常用的方法有:超薄切片法、冷冻超薄切片法、冷冻蚀刻法、冷冻断裂法等。对于液体样品,通常是挂预处理过的铜网上进行观察。电镜附件应用领域是宽广的。无论是物理、化学、生物、医学等基础学科,还是材料、微电子等应用学科都有它的用武之地。
粒度分析软件

粒度分析软件

品牌:Seron
型号:AIS
MonoCL4

MonoCL4

品牌:Gatan
型号:MonoCL4
Resolv4K变焦系统

Resolv4K变焦系统

品牌:Navitar
型号:Resolv4K
双远心镜头

双远心镜头

品牌:Navitar
型号:Dual Telecentre lens
AOI远心镜头

AOI远心镜头

品牌:Pro Optics
型号:AOI
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Quorum Q150T新型高真空溅射镀膜仪

Quorum Q150T新型高真空溅射镀膜仪

  • 品牌: 英国Quorum
  • 型号: Q150T(TE,TS,TES)
  • 产地:英国
  • 请见中国总代理商和总服务商的网站或电询:025-85432178Q150T系列模块化镀膜系统_专为SEM、TEM及薄膜应用设计的高真空溅射和蒸发镀膜仪Q150T系列:涡轮泵高真空镀膜仪,可进行高性能精细颗粒镀膜,适合场发射电镜制样应用以及制作无定形碳覆形膜及TEM栅网支持膜。基于内部安装的涡轮分子泵抽真空平台,Q150T具有三种版本/型号的镀膜仪:溅射、蒸发镀碳和溅射/蒸镀。在运用最新科技整体成型的机箱上,设有彩色触摸屏,可允许多用户输入和贮存镀膜方案。在同一个易使用系统中,根据所选择的配置,Q150T可以是一台最具水准的离子溅射镀膜仪用于高分辨扫描电镜(SEM)制样,也可以是一台适合SEM或透射电镜(TEM)应用的蒸发镀碳仪,或者是一台兼具溅射和蒸镀两功能的一体化镀膜仪。Q150T具有快速溅射易氧化和不氧化金属靶材的宽可选范围的能力,使其也成为许多金属薄膜研究及电极的应用等材料科学领域的一个理想镀膜平台。高真空性能 Q150T装在一个坚固的特制整体成型机壳中,它容纳了所有工作部件,包括空气冷却的涡轮分子泵。自动进气控制保证了溅射期间最佳的真空条件。真空腔室带有防爆安全罩。Q150T含有的“真空闭锁”允许在不用设备时维持腔室真空,从而改善真空性能。 Q150T系列三种型号 Q150TS:高分辨率磁控离子溅射镀膜仪,可溅射易氧化及不氧化金属(贵金属)。可选各种溅射靶材,包括常用于场发射电镜的铱和铬。 Q150TE:高真空热蒸发镀碳仪,可制作高稳定性的碳膜和表面覆形膜,对透射电镜(TEM)的应用非常理想。 Q150TES:集合了溅射和蒸镀两种沉积镀膜功能的镀膜系统,沉积镀膜头可在数秒内快速更换,智能逻辑系统自动识别出所装的镀膜头类型,并显示相应的操作设置。 上述每个型号还可选配一系列可选附件,如:金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等。 触摸屏控制 Q150T的操作核心为简单的触摸屏,即使最不熟练的或偶而使用的操作者,仪器也能使其快速键入和贮存自己的处理数据。程序中已贮存了各种典型溅射及蒸发镀膜的参数资料,以便提供进一步的易操作帮助。 镀膜头选项 具有一系列可互换、即插即用的镀膜头: 溅射头,可使用易氧化及非氧化金属两大类宽范围靶材;并可用另外的溅射头来快速更换镀膜材料(仅为TS及TES版本) 碳棒蒸发头 碳丝蒸发头 金属蒸发/光阑清洁头,包括向上蒸发或向下蒸发两种蒸发方式(仅为TE和TES版本) 样品台选项 Q150T具有各种样品台以满足大部分的应用。所有的样品台更换容易,drop-in式样(无需螺钉)并且高度可调(除旋转行星台)。标准配置为旋转台,可选: 可预设倾斜角度的旋转台 可变角度旋转行星台 用于4”晶圆的平面旋转台 用于显微镜载玻片的样品台 其它选项 用于高样品的加高腔室 膜厚监测附件(FTM) 用于测量低和高真空的全范围真空计Q150T系列全自动高真空离子溅射/热蒸发一体化镀膜仪给用户以类似傻瓜相机的简单操作、顶级的镀膜质量和对熟手/新手都很理想的用户界面,让用户真正领略至臻完美的镀膜品质!技术参数:● 工作腔室:150mm内径 x 127mm高 ● 触摸屏全图像用户界面 ● 样品台:标配旋转台 ● 真空系统: 涡轮分子泵:带有空气冷却的涡轮分子泵 旋转机械泵:双级旋转机械泵 ● 溅射电流:0-150mA;可预设膜厚(需FTM选项)或使用内置定时器 ● 溅射时间:最长60分钟 ● 碳蒸发:稳定的无纹波直流电源控制的脉冲蒸发,确保源自碳棒或碳丝的可重复蒸碳。 ● 金属蒸发/光阑清洁头:用于源自钨丝篮或舟的金属热蒸发。 ● 尺寸和重量:仪器机箱:585mm宽x 470mm长 x 410mm高 (总高: 650mm) ● 仪器总重量:33.4Kg主要特点:● 金属溅射或碳蒸发或两者兼备:一体化设计,节约空间 ● 精细颗粒溅射:高分辨率场发射扫描电镜(FE-SEM)制样的精细镀膜应用 ● 涡轮分子泵高真空系统:允许不氧化贵金属和易氧化其它金属靶材的溅射镀膜,大大拓宽了可溅射靶材范围,既适合普通SEM、高分辨率FE-SEM镀膜制样应用,也为许多薄膜应用等材料科研领域提供理想的镀膜平台 ● 全自动触摸屏控制:快速数据输入,简单操作 ● 可储存多个客户自定义镀膜方案:对多用户实验室十分理想 ● 与镀膜过程和镀膜材料相匹配的预编程自动真空控制 ● 精细的厚度控制:使用膜厚监控选项 ● “智能”式系统识别:自动感知用户所装的插入式镀膜头的类型 ● 高真空碳蒸镀:对SEM和TEM镀碳膜应用非常理想 ● 蒸发电流波形控制 ● Drop-in落入式快换样品台(标配旋转台) ● 真空闭锁功能:可让工作腔室处于真空状态,改善后续真空效果,或在真空条件下保存样品 ● 镀制厚膜能力:一次真空条件下的溅射时间可长达60分钟(材料科研领域的应用) ● 人体工程学设计的整体成型机壳:易维护和易拆装 ● 带有本地FTP服务器连接的以太网端口:简单的程序更新 ● 设有功率因素补偿,有效利用电能,降低运行成本 ● 符合当前电器法规(CE认证)

Resolv4K变焦系统

Resolv4K变焦系统

  • 品牌: 美国Navitar
  • 型号: Resolv4K
  • 产地:美国
  • 作为高品质,高精度变焦镜头的行业领导者,Navitar想介绍下一代变焦镜头技术。从一阶原理设计了 Resolv4K 镜头系列,以最大限度地利用具有更高像素密度的现代传感器。许多适配器选项允许用户使用从1/2“到APS格式及以上的一系列传感器。 变焦的前端,错综复杂的设计的镜头附件,为用户提供了两全其美的方案。低放大倍率变焦提供了宽阔的视野和没有牺牲MTF或损失照明。而高放大倍率变焦提供显微镜物镜像分辨率在极长的工作距离。此外,resolv4k透镜的设计已不仅仅是优越的可见光波长轴向色差校正,而且通过近红外(VisIR)和SWIR选项显著增加了波长聚焦能力。 基于全新的LED的同轴光模块与系统配对,以确保照明的均匀性,即使在大FOV配置中。更多吞吐量将Resolv4K的大视场和卓越的镜头分辨率与现代高像素密度传感器相结合,可以更快地捕获更大面积的图像;使其成为高速检测和精密测量应用的理想选择。400-600%与传统的变焦系统相比,视野更大更多波长Resolv4K变焦镜头是有可见-近红外、 短波红外涂层选择,可见选项对现有变焦镜头产生出色的轴向颜色校正。 可见-近红外选项允许在深蓝色精密表面检查,然而在1100nm执行子表面检查时,无重新聚焦或传输损失。在食品和硅晶片检查等应用中,使用短波在表面下甚至进一步看到损伤和缺陷。更多视野与传统的变焦成像相比,Navitar的Resolv4K系列提供了更高的分辨率,可以获得400-600%的更大视野,而不会有任何细节损失。不需要将来自多个捕获的多个图像拼接在一起。更高的分辨率Resolv4K更高的NA值,随着其优异的像差校正,提供了比以往更精确的测量能力。 即使将4.5倍变焦与7X 的放大系统进行比较,Resolv4K优越的设计提供卓越的性能,如下图所示,边缘扩展函数从黑色到白色转换。 系统性能一直延伸到传感器的角落,因此可以设置多个感兴趣区域,而不考虑它们在FOV中的位置。你的边缘检测软件会注意到差异。技术规格:

MTL模块化显微系统

MTL模块化显微系统

  • 品牌: 美国Navitar
  • 型号: MTL
  • 产地:美国
  • Navitar 新产品系列-模组化显微镜镜筒是OEM,科学研究领域的成像和检测应用的理想解决方案,例如量测,平板显示检测和细胞成像。?200mm 的焦距设计用于无限远校正物镜?0.5x、 1x 和 2x 的放大倍率模组化镜筒透镜覆盖 11-33mm 的相机传感器。?有2孔和3孔物镜转换器可选,实现多物镜和多倍数互换?与明场、透射、反射和 K?hler 照明技术一起使用获得高分辨率图像?是工业和生命科学应用的完美产品技术规格:MTL视场矩阵物镜镜头工作距离(mm)相机画幅/参数0.5X 镜筒透镜 H x V1.0X 镜筒透镜 H x V2.0X 镜筒透镜 H x V4XNavitar202/3” 传感器3.30 x 4.402.20 x 1.651.10 x 0.821” 传感器-3.20 x 2.401.60 x 1.204/3” 传感器-4.60 x 3.452.30 x 1.7033mm-3.30 x 2.405XMitutoyo342/3” 传感器3.52 x 2.641.76 x 1.320.88 x 0.661” 传感器-2.56 x 1.921.28 x 0.964/3” 传感器-3.46 x 2.601.73 x 0.3033mm--2.64 x 1.9910XMitutoyo33.52/3” 传感器1.76 x 1.320.88 x 0.660.44 x 0.331” 传感器-1.28 x 0.960.64 x 0.484/3” 传感器-1.73 x 0.300.87 x 0.6533mm--1.32 x 0.9920XMitutoyo202/3” 传感器0.88 x 0.660.44 x 0.330.22 x 0.161” 传感器-0.64 x 0.480.32 x 0.244/3” 传感器-0.87 x 0.650.43 x 0.3233mm--0.66 x 0.4950XMitutoyo132/3” 传感器0.36 x 0.260.18 x 0.130.09 x 0.061” 传感器-0.26 x 0.190.13 x 0.094/3” 传感器-0.35 x 0.260.17 x 0.1333mm--0.26 x 0.19

双远心镜头

双远心镜头

  • 品牌: 美国Navitar
  • 型号: Dual Telecentre lens
  • 产地:美国
  • Navitar最新高分辨率的双远心镜头提供了对于需要高精度图像采集和测量应用提供了最佳解决方案。应用范围涵盖计量、平板检测,曲面检测及其它需要大景深的图像应用。特点:镜头放大倍率0.05X—2.0X双远心可调内置光圈卓越的MTF性能图像失真度小于0.1%无视差

micromate光学系统

micromate光学系统

  • 品牌: 美国Navitar
  • 型号: micromate
  • 产地:美国
  • navitar micromate专门为4/3"芯片的相机设计的新一代高分辨率1x--3x连续变倍镜头系统,与navitar的物镜配合使用,能够在22.5mm的芯片上呈现完美图像,没有任何渐晕现象.micromate为高度灵活性的模块化设计,用户可以轻松的将其集成为高分辨率显微镜系统,用于各类应用,例如:高速生产线的精密检测,荧光成像,DIC,实验室的明场或暗场显微观测等等.micromate光学系统的特点:1、为4/3"芯片设计(22.5mm对角线)2、大视场3、完全不会有暗角和渐晕现象4、可以比2/3"芯片收集多4倍的数据5、在整个变焦过程中,NA维持不变6、模块化设计为何选择navitar新一代的micromate系统而不是市场上传统的镜头系统?您可以用micromate采集多4倍的数据。当用传统的镜头设置到相同的视场(FOV),可以看到较少的像素在里面。(图2像素点开始出现)。这个意味着从图像中只能反映较少的信息。micromate光学系统技术规格:物镜+变焦主体+镜筒的组合1×+3×变倍+1×2×+3×变倍+1×4×+3×变倍+1×20×+3×变倍+1×物镜放大倍数1.02.04.020.0物镜焦距(mm)200.0100.250.010.0工作距离(mm)129.053.620.01.0主镜头放大倍数1×-3×1×-3×1×-3×1×-3×系统放大倍数(200mm镜筒)1×-3×2×-6×4×-12×20×-60×物方视场(低倍)(mm)22.011.05.51.1物方视场(高倍)(mm)7.33.71.80.4物方NA(低倍)0.0520.10.200.85物方NA(高倍)0.0520.10.200.85分辨率(低倍)(μ)6.453.361.680.52分辨率(高倍)(μ)6.453.361.680.39匹配像素(低倍)(μ)3.233.363.365.16匹配像素(高倍)(μ)9.6810.0710.0711.84景深(低倍)(μ)203.354.913.61.1景深(高倍)(μ)203.354.913.60.6navitar显微物镜navitar平场复消色差物镜(1X,2X,4X,20X放大倍数),适合24mm对角线像方空间。这些无限校正显微物镜与micromate一起使用时,在整个成像区域内完全没有渐晕现象。 物镜放大倍数1×2×4×20×数值孔径0.050.10.20.85@?17.5mm CA工作距离(mm)12953.620.01.0mm(in air)焦距(mm)200.0100.250.010.0分辨率(μm)6.73.31.680.4景深(μm)203.354.913.61.1视场,4/3“芯片(mm)18×13.59×6.84.5×3.40.90×0.67视场,2/3“芯片(mm)8.8×6.64.4×3.32.2×1.60.44×0.33视场,1/2“芯片(mm)6.4×4.83.2×2.41.6×1.20.32×0.24视场,24mm对角线的目镜241261.2匹配的镜筒EFL=200mmEFL=200mmEFL=200mmEFL=200-600/3×mm最大直径(mm)31313141.5不包括螺纹的长度(mm)47534586安装螺纹M25×0.75M25×0.75M25×0.75M25×0.75重量(g)6886100390RoHSYesYesYesYes20×物镜的参数实在没有盖片下的参数。

Fujinon 视频镜头

Fujinon 视频镜头

  • 品牌: 美国Navitar
  • 型号: Fujinon
  • 产地:美国
  • Navitar 提供各种 Fujinon 视频镜头。现在视频成像应用越来越多,在这些应用场合下要求有单一恒定的放大倍率和固定的工作距离,从而可以使对比度和性能达到最佳,Fujinon 镜头恰好可以满足这一需求。

Navitar 机器视觉镜头

Navitar 机器视觉镜头

  • 品牌: 美国Navitar
  • 型号: Navitar
  • 产地:美国
  • Navitar 的低放大倍率 CCTV 镜头性能是所有 CCTV 视频镜头的标准。优秀的品质、精良的工艺造就出高分辨率的精密视频镜头。我们可为每一种工业和机器人图像处理应用场合提供全系列的成像镜头。? 最高 3K 的传感器有效区? 高分辨率? 低失真度? 百万像素镜头? 高速镜头? 易于接受的价格

SWIR高光谱镜头

SWIR高光谱镜头

  • 品牌: 美国Navitar
  • 型号: SWIR
  • 产地:美国
  • Navitar的固定焦距SWIR高光谱镜头专用于SWIR(短波红外)摄像机和相关应用。SWIR高光谱成像应用要求光学系统能够高校投射可见、近红外及短波红外波长的光。为了完成这个任务,镜头的设计和涂层必须能够实现在广泛的波长范围内保持高水平的透射。无论是在明亮的日光下雾/薄雾中,或者是黎明和黄昏,NavitarSWIR高光谱镜头都能提供高清晰图像。Navitar标准SWIR镜头经过特殊处理,能在SWIR波长提供更好的成像效果专用于1”(16mm对角线)传感器。镜头生成高分辨率图像,在700nm-1900nm波长范围的投射率达到75%或更高。除此之外,Navitar还有经过优化的,最新的SWIR镜头系列,专门为高性能SWIR应用而设计。该镜头适用于500nm-1700nm的波长范围,整个范围内的透射率为90%+/-5%。因此尤其适合黑暗处或晚上使用。近红外光学应用◆ 镜片品质鉴定◆ 激光束成型◆ 光学元件测量和分析◆ 光纤对准与检测◆ 热检测与研究◆ 工业检测◆ 太阳能电池测试◆ 食品检测◆ 制药应用常见应用◆ 夜晚/白天安全设备               ◆  机器视觉◆ 太阳能电池板                      ◆   医疗◆ 生物识别技术                      ◆  半导体◆ 晶片检查                            ◆  航拍◆ 周边监测                            ◆ 食品分拣定制SWIR镜头Navitar也提供了定制SWIR解决方案。我们最近曾为一家摄像机制造商定制镜头。系统制成后,能够检测到可见、近红外(NIR)和短波红外(SWIR)波长,即400nm至1600nm波长的光。定制设计的是F/1.35、25mm、C型安装的镜头。请联系客户经理为您提供定制SWIR的报价。

ZFL荧光成像系统

ZFL荧光成像系统

  • 品牌: 美国Navitar
  • 型号: Navitar ZFL
  • 产地:美国
  • ZFL荧光视频显微镜Navitar ZFL视频荧光显微镜,是一种利用专业的可互换荧光棱镜和内部对焦实现成像的,具有宏/微方式的荧光成像系 统。与高费用,高复杂型,功能齐全的研究型显微镜不同,Navitar ZFL为那些需要紧凑简易型设计,同时又需要对特定的高清晰度荧光成像任务,提供了一个最佳的解决方案。特征:利用可互换的专业荧光凌镜成像,可兼容大多数现有的摄像机系统比传统显微镜成本更低、体积更小(更紧凑)与宏模式2/3”CCD结合使用,视野可达9.2毫米微模式利用了专业的无限校正物镜远程UV光源包括有一个长寿命金属卤素灯泡可选用变焦系统和固定系统。两种系统中均包括微调对焦常见应用:流体细胞术                 凝胶成像活体细胞成像              菌落计数激光共焦成像              空气和水污染检测细胞分选                     DNA测序司法鉴定                     质谱

微分干涉差分(DIC)显微镜模块

微分干涉差分(DIC)显微镜模块

  • 品牌: 美国Navitar
  • 型号: DIC
  • 产地:美国
  • Navitar提供两种微分干涉差分(DIC)显微镜模块:DIC组装Nikon高分辨率模块(1-63726)、DIC组装模块(1-63102)两种模块都可用于ZOOM6000和12倍变焦的任何超同轴版本上(变焦或不变焦)。模块与物体侧NA一起使用,范围从0.05至0.50,在0.15至0.4具有最佳性能。在以上范围工作的镜头附件用于宏观的应用。为入射光设计的任何无限校正的物镜将用于微观的应用。DIC与反射光一起使用时,通常可以解释为表面几何真正的三维表示。它在标本内升起和降下的区域之间提供了明确的区分。?

AOI远心镜头

AOI远心镜头

AOI微距镜头

AOI微距镜头

AOI变焦镜头

AOI变焦镜头

高速镜头

高速镜头

  • 品牌: 美国Navitar
  • 型号: High-speed lens
  • 产地:美国
  • Navitar 高速固定焦距镜头用于 CCD 和 CMOS 摄像机。C 型安装的 1”像幅镜头有 17、25 和 50 mm 三种焦距,非常适合低照度的应用。 常见应用?数字显微镜?化学发光?数字 X 光?运动分析?运输检查?高速瓶检查Navitar 高速固定焦距镜头用于 CCD 和 CMOS 摄像机。C 型安装的 1”像幅镜头有 17、25 和 50 mm 三种焦距,非常适合低照度的应用。请来电查询有关电动型号的更多信息。常见应用? 数字显微镜? 化学发光? 数字 X 光? 运动分析? 运输检查? 高速瓶检查

大像幅镜头

大像幅镜头

  • 品牌: 美国Navitar
  • 型号: Large format lens
  • 产地:美国
  • 大像幅镜头Navitar大像幅镜头符合从中心到边缘的高分辨率、低失真和与应用有关的 F 值等要求。这些镜头不是经过修改的视频镜头;设计这些镜头是为了适应高端百万像素类型摄像机的性能要求。 大像幅镜头优点众多◆用于线扫描和大面阵摄像机的设计。◆中心到边缘的低失真率。◆用于特写成像的大视野设计。◆更大的景深。◆有限的衍射。◆非凡的对比度?

近红外镜头系统

近红外镜头系统

  • 品牌: 美国Navitar
  • 型号: Near infrared lens system
  • 产地:美国
  • Navitar提供用于近红外的高放大倍率ZOOM6000、12倍变焦和Precise Eye系统。该系统经过特殊镀膜处理,在700-1500nm的近红外(NIR)波段范围内捕捉微小图像时,可提供高分辨率和无与伦比的高灵敏度。这种模块化的镜头系统可以配置,几乎可以适用于所有的应用场合。近红外光学应用◆ 镜片品质鉴定◆ 激光束成型◆ 光学元件测量和分析◆ 光纤对准与检测◆ 热检测与研究◆ 工业检测◆ 太阳能电池测试◆ 食品检测

德国IDE PAD系列主动隔振台

德国IDE PAD系列主动隔振台

  • 品牌: 德国IDE
  • 型号: PAD系列
  • 产地:德国
  • 产品简介德国IDE PAD系列主动隔振台IDE PAD系列低频主动隔振平台,是专为精密设备消除低频振动的平台。PAD系列主动隔振台一般放在地面上,从而将精密设备从地面隔离出来,起到隔振效果。产品特点:a) 压电陶瓷材质,能够随表面应力的变化而实时变化b) 六维自由度隔振,不仅检测地面振动,还可检测其他方向振动c) 主动隔振频率0.7~150Hz,低频隔振效果显著d) 减振步幅大,每次达到100微米e) 无需空气装置

德国IDE MK-5 主动消磁系统

德国IDE MK-5 主动消磁系统

  • 品牌: 德国IDE
  • 型号: MK-5
  • 产地:德国
  • IDE MK-5低频主动消磁系统是专为精密设备消除低频振动的系统,设备主要由传感器、控制器、亥姆霍兹笼以及电缆组成。一般会将精密设备“关”进笼子,通过反向磁场抵消起到屏蔽外界磁场干扰的效果。

GloQube 辉光放电处理机

GloQube 辉光放电处理机

  • 品牌: 英国Quorum
  • 型号: GloQube
  • 产地:英国
  • 产品简介GloQube 辉光放电处理机英国GloQube辉光放电处理机(又称辉光放电清洁系统,用于TEM铜网处理等),典型应用包括但不限于:带有碳支持膜的TEM铜网及粘附核酸的碳膜从疏水改性成亲水;蛋白质、抗体和核酸;正电荷蛋白质分子(如:铁蛋白、细胞色素c)等。有单或双腔室两种系统可选,全自动操作、处理时间短,直观的触屏电脑控制-快速输入参数、操作简单,采用膜密封瓶的安全蒸气注入方式,快捷载样,在两个腔室之间设有自动切换阀以防交叉污染。具有亲水/疏水模式及负电荷/正电荷 模式可供选择 。

PP3010连体式CryoSEM冷冻制备传输系统

PP3010连体式CryoSEM冷冻制备传输系统

  • 品牌: 英国Quorum
  • 型号: PP3010
  • 产地:英国
  • 系统采用触摸屏自动控制,用户自定义操作方案;高效冷却,一次灌装液氮后系统运行时间可达一整天,期间无需补加液氮;广泛的自动操作:自动抽真空、自动升华、自动低电压冷溅射镀膜等。

日立电镜样品清洗仪 ZONESEM II/Zone TEM

日立电镜样品清洗仪 ZONESEM II/Zone TEM

  • 品牌: 日立
  • 型号: ZONESEM II/Zone TEM
  • 产地:日本
  • 产品简介日立电镜样品清洗仪 ZONESEM II/Zone TEM日立ZONESEM II/Zone TEM为电镜样品前处理装置,利用臭氧/紫外快速清除样品表面容易引起污染的碳氢化合物且不损伤样品,最大限度上提高电镜的观察效果,还原材料的真实形貌。日立ZONESEM II电镜样品清洗仪为Zone SEM的升级版,优化了产品的样品尺寸、真空范围以及处理时间等。ZONESEM II与Zone TEM 均为电镜样品前处理装置,利用臭氧/紫外快速清除样品表面容易引起污染的碳氢化合物且不损伤样品,最大限度上提高电镜的观察效果,还原材料的真实形貌。主要特点:1.  可快速无损伤清洁样品表面污染物;2.  ZONESEM II样品尺寸直径100mm,高度37mm3.  Zone TEM试用范围广泛,同时装载3根日立TEM、STEM、FIB     样品杆,且适用于其他电镜厂家样品台及样品杆应用领域:1. 样品细节需要高分辨观察或表面信息丰富,表面污染物易覆盖;2. 需要低加速电压观察样品表面;3. SE、BSE、TEM/STEM观察时易产生碳沉积影响观察的处理; 4. 需要较长时间观察的EBSD或EDS/WDS样品表面的清洁

IXRF喷碳仪 VC-100

IXRF喷碳仪 VC-100

日立质谱检测器 Chromaster5610

日立质谱检测器 Chromaster5610

  • 品牌: 日立
  • 型号: Chromaster5610
  • 产地:日本
  • 1.可轻松获得质谱信息 -该装置与大型质谱分析仪(Mass Spectrometer)不同,为HPLC用户提供了具有全新概念的质谱检测器(MS Dector)。 2.具有台式机尺寸的紧凑设计,可安装于HPLC实验室可使用AC220V电源。 -无需排气管道,对安装环境没有要求,因此无需进行特别安装施工。 -利用节省空间、紧凑的设计,实现了与HPLC系统相同的安装面积。 -成功将N2气体使用量控制在最小限度(最大流量3.0L/min),N2气瓶也可使用。 -可与当前使用的HPLC进行连接。

【Hitachi】日立IM4000离子研磨仪

【Hitachi】日立IM4000离子研磨仪

  • 品牌: 日立
  • 型号: IM4000
  • 产地:日本
  • 使用切片方式制备像纸张、纤维等软材料截面样品,容易使样品变形错位;机械抛光处理的样品表面经常也会留下划痕、污染和表面应力,对样品的形貌观察和结构分析带来不利影响。日立新推出的IM4000离子研磨仪既可以对样品进行氩离子截面切割,可以进行氩离子平面研磨,是截面样品制备和平面样品无应力抛光的理想工具。

【Hitachi】日立离子研磨仪 IM4000Plus

【Hitachi】日立离子研磨仪 IM4000Plus

  • 品牌: 日立
  • 型号: IM4000
  • 产地:日本
  • 韦德国际1946手机版:离子研磨仪IM4000Plus是样品用于扫描电镜观察(SEM)和表面分析(EDX,EBSP等)的前处理工具。可以无应力的去除样品表面层,加工出光滑的镜面,IM4000Plus加工速率最大提高到500 μm/h。主要特点:混合模式:两种研磨配置截面加工:将样品断面研磨光滑,便于表面高分辨观察平面研磨:不同角度有选择地,大面积,均匀地研磨5 mm的平面,以突显样品的表面特性高效:提高低电压加工效率,减少样品损伤采用新型离子枪设计,减少了横截面研磨时间(最大加工速度:硅材质为500 μm/h )

Hitachi日立高新磁控溅射器MC1000

Hitachi日立高新磁控溅射器MC1000

  • 品牌: 日立
  • 型号: MC1000
  • 产地:日本
  • 日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。 日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径:60 mm 日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品高度:20 mm

Gatan  PECS II 685精密刻蚀镀膜系统

Gatan PECS II 685精密刻蚀镀膜系统

  • 品牌: 美国Gatan
  • 型号: PECS II 685
  • 产地:美国
  • 品牌: GATAN 名称型号:精密刻蚀镀膜系统PECS II 685制造商: 美国GATAN公司经销商:欧波同韦德国际1946手机版产品综合介绍:产品功能介绍Gatan公司的精密刻蚀镀膜仪 (PECS) II 是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品,可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。品牌介绍美国Gatan公司成立于1964年并于70年代末进入中国市场。Gatan公司以其产品的高性能及技术的先进性在全球电镜界享有极高声誉。作为世界领先的设计和制造用于增强和拓展电子显微镜功能的附件厂商,其产品涵盖了从样品制备到成像、分析等所有步骤的需求。产品应用范围包括材料科学、生命科学、地球物理学、电子学,能源科学等领域, 客户范围涵盖全球的科研院所,高校,各类检测机构及大型工业韦德国际1946手机版实验室,并且在国际科学研究领域得到了广泛认同。经销商介绍欧波同韦德国际1946手机版是中国领先的微纳米技术服务供应商,是一家以外资韦德国际1946手机版作为投资背景的高新技术韦德国际1946手机版,总部位于香港,分别在北京、上海、辽宁、山东等地设有分公司和办事处。作为蔡司电子显微镜、Gatan扫描电子显微镜制样设备及附属分析设备在中国地区最重要的战略合作伙伴,公司秉承“打造国内最具影响力的仪器销售品牌”的经营理念,与蔡司,Gatan品牌强强联合,正在为数以万计的中国用户提供高品质的产品与国际尖端技术服务。产品主要技术特点:精密刻蚀镀膜仪 (PECS) II,采用两个宽束氩离子束对样品表面进行抛光,去除损失层,从而得到高质量的样品,用于在SEM、光镜或者扫描电子探针上进行成像、EDS,EBSD,CL,EBIC或者其他分析,另外将这两支离子枪对准靶材溅射,可用来对样品做导电金属膜沉积处理,以防止样品在电镜中发生荷电效应。这款仪器被设计为不破坏真空,不将样品新鲜表面暴露在大气中,即可对抛光样品进行处理。样品的装卸是通过一个专门设计的装样工具在真空交换舱中完成。两支具有更大电压范围的小型潘宁离子枪,可提供快速柔和的抛光效果。低至100eV的离子束提供更柔和的抛削效果,用于样品的终极抛光。低能聚焦电极使得离子束的直径在几乎整个加速电压范围内都保持一致。每个离子枪都能准确独立地进行对中。在仪器运行过程中,离子枪的角度可随时进行调整。离子枪的气流可在触摸屏上通过手动方式或者自动方式进行调整, 用于优化离子枪的工作电流。PECS II样品台采用液氮制冷方式。可以有效的保护样品,避免离子束热损伤,消除可能的假象。集成的10英寸彩色触摸屏计算机可对PECS II系统的所有操作参数进行完全控制。此界面不仅可以设定所有参数并能够监控抛光过程。所有的操作参数还可以存为配方,调用配方可获得高精度重复实验。涡轮分子泵搭配两级隔膜泵保证了超洁净环境。通过Gatan的样品装卸工具能实现快速样品交换(< 1min),这样就能保证换样过程中加工舱室始终处在高真空状态。图片说明:(A)PECSII 抛光的样品表面的二次电子像,显示出高度孪晶的晶粒(B)PECSII 抛光后的锆合金的菊池花样(C)EBSD欧拉角分布图(D)IPFZ面分而战。照片由牛津韦德国际1946手机版材料学院Angus Wilkin-son 教授和Hamidreza Abdolvand 博士提供。数据是在配有Bruker Quantax EBSD系统的Zeiss Merlin Compact扫描电镜上采集。产品主要技术参数:离子源*离子枪两支配有稀土磁铁的潘宁离子枪,高性能无耗材*抛光角度±10°, 每支离子枪可独立调节离子束能量100 eV 到 8.0 keV离子束流密度10 mA/cm2 峰值离子束直径可用气体流量计或放电电压来调节样品台样品大小:最大直径 32mm, 最大高度 15mm样品装载: 对于截面样品抛光采用 Ilion II 专利的样品挡板,二次再加工位置精确。样品抛光及镀膜功能:兼具有平面抛光、截面抛光及溅射镀膜功能,靶材数:2个靶材切换:无需破坏真空,可直接切换样品旋转:1 到 6 rpm 可调束流调制:角度可调的单束调制或双束调制真空系统干泵系统80 L/s 的涡轮分子泵配有两级隔膜泵压力5 x 10-6 torr 基本压力8 x 10-5 torr 工作压力真空规冷阴极型,用于主样品室;固体型,用于前级机械泵*样品空气锁Whisperlok专利技术,无需破坏主样品室真空即可装卸样品,样品交换时间 < 1 min用户界面*10 英寸触摸屏操作简单,且能够完全控制所有参数和配方式操作*操作界面语言:提供中文、英文等多种选择产品主要应用领域:EBSD样品制备截面样品制备金属材料(合金,镀层)石油地质岩石矿物光电材料化工高分子材料新能源电池材料

英国Deben Microtest 200N拉伸台

英国Deben Microtest 200N拉伸台

  • 品牌: 英国DEBEN
  • 型号: Microtest 200N
  • 产地:英国
  • Microtest 200N拉伸台§载荷力范围从2N到200N§可与扫描电镜,原子力显微镜,X射线衍射系统,光学显微镜配套使用§可选制冷和加热组件§可选培养皿液体浸没组件§可选3点和4点弯曲夹具§可选压电式控制标准200N拉伸台200N拉伸台使用标准的微型载荷力传感器,载荷力范围从2N 到200N。样品水平安装,由一对夹爪固定,且被不锈钢滑动轴承支撑。一个双螺纹螺杆在相反方向对称地驱动夹爪,保持样品位于视场的中央。200N模块非常理想地适合与扫描电镜、光学显微镜或原子力显微镜配套使用,且它很容易装在大多数样品台上。定制版本可使用制冷和加热组件,也可延长样品长度和延长拉伸行程。装有培养皿的200N拉伸台这种200N拉伸台版本是被用来测试浸没在液体中的样品(右图所示)。样品备好后装到拉伸台上方悬空的夹具上,再和特殊的转载架一起横移。可选安装peltier半导体制冷的温度控制器来设置液体温度,温度范围在10°C 和 50°C之间。通常要使用装有能沉入水中的镜头的光学显微镜来观察样品。装有Peltier制冷和加热组件的200N拉伸台装有制冷和加热组件的200N拉伸台版本,用来提供在-20°C和+160°C之间的温度控制。控温板直接放置在样品下方,并通过一个小的peltier半导体元件来设定温度。系统控制和冷却水采用Deben冷台控制系统,该系统自带循环水冷却器,并通过操作键盘或电脑进行精确的温度控制。具有压电控制的200N MEMS拉伸台200N拉伸台压电控制版装有压电式马达,可实现非常精细的运动,运动步长可精确至几纳米。这款拉伸台主要用于操纵扫描电镜中微型MEMS器件,也可用于其它多种应用,并且可以定制用于特殊样品。软件描述Microtest软件用于控制Deben出品的系列Microtest拉伸台,目前不支持用于控制其他制造商出品的类似测试设备。这款软件实际上是一个图形化界面,可轻松控制所有必需的参数。大的绘图窗口可以实时显示加载力与行程或时间的对应关系。采样时间可以被设置在100ms 到5s之间。这款软件可以在Windows XP/7.0下运行, 通过USB实现模块和计算机之间的通讯。作为可选项,我们提供集成的视频采集组件,它允许视频和数据(加载力与行程数据)同时被捕捉,且数据被叠加在图像上。视频采用AVI格式储存且可被安装在电脑上的任何编解码器进行压缩处理。当回放绘图窗口时,数据图和视频同步显示,所以你可精确观察在测试期间任何时间点的样本形态。软件技术规格lMICROTEST WindowsTM软件对所有模块都是相同的,它提供了全面的控制功能。l软件当前版本是32位Windows XP版本和32/64位Windows 7.0 版本。l电脑最低配置要求:奔腾双核,2GB内存,Windows XP 32位专业版或Windows7.0 32/64位专业版或旗舰版,一个可用的USB2接口,显示分辨率至少1024×768(256色)。实时显示载荷力、拉伸行程和拉伸时间。压力/应力曲线的动态图形显示。可用光标在曲线上直接精确测量载荷力、拉伸行程和时间。可将数据以逗号分开的变量格式存储到文件里。可与测试数据一起储存样品细节水平采样点最多可达256,000个。 采样间隔时间:100mS, 200mS, 500mS, 1S, 5S.获得的图形可直观显示马达启动、暂停或停止的位置。自动缩放图形的水平轴和垂直轴。可预设载荷、时间或行程,实现对停止测试的阈值控制。可进行循环载荷和恒定载荷测试。可按位移(mm)、时间或采样点来按比例缩放水平轴设置菜单中可选择马达转速和采样时间。可选的图像采集组件可进行连续的图像捕捉拉伸台硬件技术规格200N拉伸台具有加热/制冷、液池或压电陶瓷致动器等可选配置。尺寸:110mm x 58mm x 33mm (长x宽x高 大约)两夹具之间的距离为10-20mm或者25-35mm(标准拉伸台)(行程为10mm),可选20mm行程可进行拉伸和压缩测试可互换的载荷力传感器:读数精度为+/-1%Microtest软件是带有综合控制程序的USB2控制模块。电脑最低配置要求:英特尔双核,2GB内存,100Gb硬盘和USB2接口(不提供电脑),操作系统应为Windows XP专业版/Windows 7.0(欧洲版或美国版)可选项:3点和4点弯曲夹具、培养皿液池、Peltier半导体冷却和加热组件、压缩型笼式弹簧夹具、纤维夹具等(请访问www.tansi.com.cn联系覃思公司)

三离子束切割仪 Leica EM TIC 3X

三离子束切割仪 Leica EM TIC 3X

  • 品牌: 徕卡显微系统
  • 型号: Leica EM TIC 3X
  • 产地:德国
  • 为您带来的优势 顶级性能 独特的三离子束系统,可获得最佳的截面处理质量,并可高效获得宽且深的切割区域,大大降低工作时间。并可实现在一次处理过程中最多处理3个样品。因此对有高通量需求的实验室,徕卡EM TIC 3X是最佳解决方案。 可装配系统 根据您的样品制备需要,可以有针对性地在徕卡EM TIC 3X上装配一体化设计样品台-标准样品台,多样品台或冷冻样品台。 冷冻样品台 针对温度敏感型样品如橡胶或水溶性高分子聚合纤维等,可以使用冷冻样品台对样品进行低温下处理,获得高质量处理结果。样品托和挡板的温度都可达到-150° C。 样品托 多种多样的样品托,适合于各类尺寸样品。 样品TOPO结构清晰可见 除了剖面切割,使用同一样品托还可对样品进行清洁及增强衬度的功能。 Leica EM TIC 3X - 设计和操作方面的创新性特点 高通量,提高成本收益 ;可获得高质量切割截面,区域尺寸可 达>4×1mm;多样品台设计可一次运行容纳三个样 品; 离子研磨速率高,Si材料150μm/ h,50μm切割高度,可满足实验室高通 量要求 ; 可容 纳 最 大 样 品 尺 寸 为 50×50×10mm ;可使用的样品载台多种多样 简单易用,高精度 ;可简易准确地完成将样品安装到载台 上以及调节与挡板相对位置的校准工 作 ;通过触摸屏进行简单操控,不需要特 别的操作技巧;样品处理过程可实时监控,可以通过 体视镜或HD-TV摄像头观察;LED照明,便于观察样品和位置校准 ;内置式,解耦合设计的真空泵系统, 提供一个无振动的观察视野 ;可在制备好的平整的切割截面上可 再进行衬度增强作用,即离子束刻 蚀处理;通过USB即可进行参数和程序的上 传或下载;几乎适用于任何材质样品 ;使用冷冻样品台,挡板和样品温度可 降至150°C L 。

2KV PCB可焊高压电源模块(15PPM低温漂/5mV超低纹波/极性接反保护/PMT电源/质谱

2KV PCB可焊高压电源模块(15PPM低温漂/5mV超低纹波/极性接反保护/PMT电源/质谱

  • 品牌: 西安威思曼
  • 型号: MCP
  • 产地:
  • 【型  号】 MCP 【功率(W)】 0.5W,1W 【最大输出电压(kV)】 ,0.3,0.5,0.8,1,1.1,1.25,1.5,2, 【在线订购】 【在线下载】 威思曼高压电源推出的MCP模块高压电源是光电倍增管,质谱仪,电子显微镜等专用超低噪音,高稳定性,小型化模块。价格有优势。 主要用途: 光电倍增管、电离室、正比计数管、盖革-弥勒(G-M)计数管、电泳、透镜、质谱仪、探测器、 探测器、闪烁器、电子束、离子束、静电印刷、高电压偏置、医疗化工,科学实验,工业应用。 MCP系列是一款印制电路板安装式高压电源模块,体积小,超低纹波5mV,超高稳定性,15ppm低温度漂移,六面屏蔽超低噪声。有过流、短路、拉弧等保护。 输入电压: 12±0.5V (可选:-5:5V±1V,-15:15V±1V ,-24:24V±1V) 输入电流: 空载:15mA 满载:95mA 输出电压范围: 0到2000V 或 0到-2000V 最大输出功率: 0.5W,1W。 电压调整率:0.01%,典型的。 负载调整率:0.01%,典型的。 稳定性: 每小时0.01%,每8小时0.03%。 纹波/噪音: 5mV(最大电压和最大电流时),典型的。 输出电压控制:通过外部电压控制(0 V 到 +5 V) 或通外部电位器给定 (50 kΩ ±2.5 kΩ) 电压控制输入阻抗:80KΩ 输出电压上升时间:50ms(0-99%) 温度系数:15ppm/℃ 温度: 工作温度:0℃到50℃ 储存温度:-20℃到+70℃ 湿度: 工作湿度:80%以下,无冷凝。 储存湿度:80%以下,无冷凝。 保护功能: 模块有输入电压极性接反保护,控制电压大或接反保护,持续的过载保护,短路保护,拉弧保护 尺寸:D46 X W24 X H12 重量:31g(1.09 OZ) 有关威思曼及其更多高压产品的信息,请致电 086-029-33693480或访问其网站: www.wismanhv.com 威思曼高压电源韦德国际1946手机版,通过ISO9000:2008质量体系认证,公司拥有出色的高压电源研发团队,完善的高压电源研发软件和测试软件。全球领先的高 电压绝缘技术,完善的零电流谐振技术,使威思曼高压电源始终保持高稳定性、低纹波、低电磁干扰、体积小,损耗小,效率高,长寿命。威思曼高压电源价格有竞 争力,是OEM应用的理想选择。 威思曼高压电源韦德国际1946手机版是世界具有领导地位直流高压电源和一体化X射线源供应商,同时提供标准化产品和定制设计服务。产品广泛应用于医疗,工业,半导体,安全,分析仪器,实验室以及海底光纤 等设备。集设计,生产和服务为一体的工厂分布于美国,英国,及中国等地,并且我们销售中心遍布于欧洲,北美洲以及亚洲,我们将竭诚为您服务!

加速电极高压发生器

加速电极高压发生器

  • 品牌: 西安威思曼
  • 型号: MRL
  • 产地:
  • 【型  号】 MRL 【功率(W)】 70W-210W 【最大输出电压(kV)】 ,1,1.5,2,2.5,3,5,7.5,10,15,20,25,30,40,50,60,70, 【在线订购】 【在线下载】 外观专利产品 威思曼MRL系列是高稳定精密高压电源模块,MRL系列模块电源提供正高压或负高压输出。MRL系列模块电源可以内、外、计算机精密测控,MRL系列模块电源保护有过压、过流、拉弧、安全互锁等。 典型应用: 质谱仪 材料耐压测试(高压电阻耐压测试,高压电容耐压测试,绝缘材料耐压测试) 静电电场建立 塑料筛选 塑料排序 电容充电 高压闪络 农业育种 除静电 空气净化 工业,科学研究 可选功能: AC交流灯丝电源 USB 计算机USB2.0测控 规格说明: 输入:交直流可选,最大电流4A。 输出:1KV、3KV、4KV、5KV、6KV、7KV、8KV、9KV、10KV、15KV、20KV、30KV、40KV、50KV、60KV、70KV、80KV,100KV,130KV,160KV, 输出功率:1-200W任选 电压控制:电源内部:电源自带的多圈电位器可将输出电压设置在 0V 到最高电压之间。 外部遥控:外部 0 到 10V 控制信号可将输出从0V调到最高输出电压 电源内部:电源自带的多圈电位器可将电子束电流设置 在 0A 到最高电流。 外部遥控:外部 0 到 10V 控制信号可将电子束电流设置 在 0A 到最高电流。 电压调整率: 相对负载:0.01%(空载到额定负载) 相对输入:±0.01%(输入电压变化为±10%) 电流调整率: 相对负载:0.01%(空载到额定负载) 相对输入:±0.01%(输入电压变化±10%)。 纹波电压:输出额定电压前提条件下,纹波电压的峰峰值为最高输出电压的0.1%。更低纹波可以定制。 稳定度:开机半小时后每小时小于25ppm。 温度系数:每摄氏度≤25ppm 工作温度:0 到+50℃。 储存温度:-40 到+85℃。 湿度:20%到85%RH,无冷凝 电压电流指示:0到+10V,额定输出条件下精度为1%。 外形尺寸:正高压:长260mm,宽100mm,高170mm。 负高压:长260mm,宽100mm,高150mm。 冷却方式:自然冷却 连接器: 高压输出连接器:凹进的绝缘导管和探入的高压电缆通过金属连接器连接。高压电缆总长为1米。 输入输出连接器:DB15端子连接器,包含控制和显示信号。

DE-64直接电子探测相机

DE-64直接电子探测相机

  • 品牌: 美国Direct Electron
  • 型号: DE-64
  • 产地:美国
  • DE-64常用技术指标 适用的加速电压范围80 keV 1.25 MeV像素点大小6.5 μm像素阵列尺寸8192 × 8192 | 67.1 megapixels成像面积53 × 53 mm单电子信噪比(与加速电压有关) >50:1 @ 300 keV芯片设计>3T的CDS像素设计 | 芯片打薄 | 抗辐照设计连续帧率多达30fps,无bin的完整图像子阵列可>500 fps(取决于尺寸大小)数据采集模式 积分模式 | 电子计数模式 (可自由选择)第二芯片集成另外一个2k × 2k的CCD相机电子剂量测定装有法拉第杯,用于测定曝光的电子剂量芯片保护芯片上方装有快门进行物理保护 | 软件保护电脑系统配有SSD RAID存储阵列的相机专用高性能工作站数据收集&处理软件 常见收集:DE-IM(界面友好的全功能数据采集件)| μManager(免费,开源)原位录像数据收集:DE-StreamPix(连续进行)自动收集:Leginon | SerialEM | EMTools (TVIPS) | 也可使用 DE SDK“影片”式数据处理:DE图像处理软件(免费,开源,以Python为基础) | 定制软件:可提供软件开发包,集成客户软件要求

DE-16直接电子探测相机

DE-16直接电子探测相机

  • 品牌: 美国Direct Electron
  • 型号: DE-16
  • 产地:美国
  • DE-16常用技术指标 适用的加速电压范围80 keV 1.25 MeV像素点大小6.5 μm像素阵列尺寸4096 × 4096 | 16.8 megapixels成像面积27 × 27 mm单电子信噪比(与加速电压有关) >50:1 @ 300 keV芯片设计>3T的CDS像素设计 | 芯片打薄 | 抗辐照设计连续帧率多达60fps,无bin的完整图像多达120fps,2×bin的完整图像子阵列可达 1000+ fps(取决于尺寸大小)数据采集模式 积分模式 | 电子计数模式 (可自由选择)第二芯片集成另外一个2k × 2k的CCD相机电子剂量测定装有法拉第杯,用于测定曝光的电子剂量芯片保护芯片上方装有快门进行物理保护 | 软件保护电脑系统配有SSD RAID存储阵列的相机专用高性能工作站数据收集&处理软件 常见收集:DE-IM(界面友好的全功能数据采集件)| μManager(免费,开源)原位录像数据收集:DE-StreamPix(连续进行)自动收集:Leginon | SerialEM | EMTools (TVIPS) | 也可使用 DE SDK“影片”式数据处理:DE图像处理软件(免费,开源,以Python为基础) | 定制软件:可提供软件开发包,集成客户软件要求

DE-20直接电子探测相机

DE-20直接电子探测相机

  • 品牌: 美国Direct Electron
  • 型号: DE-20
  • 产地:美国
  • DE-20常用技术指标适用的加速电压范围 80 keV 1.25 MeV像素点大小 6.4 μm像素阵列尺寸 5120 × 3840 | 19.7 megapixels成像面积 33 × 25 mm单电子信噪比(与加速电压有关) >20:1 @ 200 keV芯片设计 >3T的CDS像素设计 | 芯片打薄 | 抗辐照设计连续帧率 多达32fps,无bin的完整图像 子阵列可达 960 fps(取决于尺寸大小)数据采集模式 积分模式 | 电子计数模式 (可自由选择)第二芯片 集成另外一个2k × 2k的CCD相机电子剂量测定 装有法拉第杯,用于测定曝光的电子剂量芯片保护 芯片上方装有快门进行物理保护 | 软件保护 电脑系统 配有SSD RAID存储阵列的相机专用高性能工作站

DE-12直接电子探测相机

DE-12直接电子探测相机

  • 品牌: 美国Direct Electron
  • 型号: DE-12
  • 产地:美国
  • DE-12常用技术指标适用的加速电压范围 80 keV 1.25 MeV像素点大小 6.0 μm像素阵列尺寸 4096 × 3072 | 12.6 megapixels成像面积 25 × 18 mm单电子信噪比(与加速电压有关) >20:1 @ 200 keV芯片设计 >3T的CDS像素设计 | 芯片打薄 | 抗辐照设计连续帧率 多达40fps,无bin的完整图像 多达75fps,2×bin的完整图像 子阵列可达 1000+ fps(取决于尺寸大小)数据采集模式 积分模式 | 电子计数模式 (可自由选择)第二芯片 集成另外一个2k × 2k的CCD相机电子剂量测定 装有法拉第杯,用于测定曝光的电子剂量芯片保护 芯片上方装有快门进行物理保护 | 软件保护 电脑系统 配有SSD RAID存储阵列的相机专用高性能工作站 积分模式拍摄下DDD的性能指标曲线DE-12 性能优势DDD相机具有高分辨率、高敏感度、高信噪比4k × 3k(1260万)像素是原位TEM、材料科学、带有能量过滤的高动态范围TEM研究的理想选择,并能进行长时间曝光的数据收集提供“Movie Mode”(有利于漂移校正),并可以记录和存储连续拍摄的图像数据开源软件包集成的法拉第杯,在成像之前判断电子剂量以保护芯片过度曝光,在成像时记录和监控每张照片的拍摄剂量。应用范围广,包括像cryo-EM、STEM、DTEM以及原位TEM都有很好的应用性价比高,提供周到及时的售后服务(苏州德锐特拥有软硬件工程师,服务于中国区的DE相机,并支持共同开发和技术合作)

纳米操纵手

纳米操纵手

  • 品牌: 韩国Seron
  • 型号: HYBRID-III
  • 产地:韩国
  • 仪器简介:世伦科技专业制造高性能钨灯丝扫描电镜,成功完成微纳米操作机械手和AIS扫描电镜的无缝连接,软硬件配合得当。 应用领域: ● 材料研究 ● 法医和犯罪研究 ● 微尺度精度控制 ● 高分辨分析 ● 显微摩擦学研究 ● 纳米建造 ● 半导体开发生产 技术参数:主要性能 1. 迪卡坐标的独立轴运动 2. 在扫描电镜景深方向,绝对垂直轴的配置, 3. 可选择的X Y轴位置传感器,重复精度好于60nm 4. 小型化的设计,适合任何样品室 5. 多种轻松校准工具的选择 6. 结实耐用, 7. 移动限位采用碰撞,不损失位置信息 8. 从纳米到厘米行程,纯压力驱动,没有外加电机。 9. 1nm的探针分辨率 10.至少1微米的定位精度 11.整个操纵器低至10nm的的减震装置 12. 行程可在5~50mm范围内选择 13. 模块化设计方便选择每个轴的尺寸和行程 14. 操纵器独立稳定,不影响样品的自由移动 15. “微手提钻头”方式处理的材料可达50g 16. 可为适合任何扫描电镜有效使用的操纵器提供足够的信息交换网络电子附件 17. 通过不同的探针技术来实现传感器和执行机构的可靠接触 18. 可选择包括电子器件和软件力反馈 19. 不同的显微镊子系列 20. 升级成晶圆探测系统 21. 可选择 显微拉力装置 22. 可选择模式识别的可视系统 23. 获得大量有价值的项目:带有适配器的微型传感器和执行机构 24. 可提供2-5自由度的高精度定位样品台,形成一个有机纳米操纵系统 25. 三个级别的软件控制:动态链接库,手动控制,自动控制主要特点:The Nano manipulators can easily be installed in any member of the series of AIS SEM. Within the microscope chamber the Nano manipulators are mounted on an additional flange on the door, pointing towards the sample stage. If the door is opened the manipulators come out in the same way as the sample stage. First assembling and testing steps can be performed in air, perhaps visualized by a long working distance optical microscope. After closing the door the combination of Nano manipulator and SEM leads to a powerful tool as a workbench. All manipulators are available as complete system, for example including : - Individual vacuum chamber design, assembly systems - Cable harness, feed-through - Electronics, software, (Force Feedback-) joysticks - Tip holders, different probe tips, including electrical support - Different approach electronics for all kind of probe tips and samples

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