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等离子体表面处理仪

赛默飞世尔
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等离子体表面处理仪

等离子体表面处理仪概述

等离子体表面处理仪是通过利用对气体施加足够的能量使之离化成为等离子状态,利用这些活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等的目的。等离子体表面处理仪的用途:1、医用材料研究,主要为研究和开发韦德国际1946手机版或研究所;2、电子领域,应用较为广泛,如电路板等;3、生物芯片领域;4、高分子材料研究或开发单位;5、高端和精密研究的清洗、除污。保证仪器的正常使用;6、光学材料的开发和研究;7、电化学单位,进行表面处理的单位;8、其他主要进行表面处理的单位。
高级朗缪尔探针(Langmuir Probe)

高级朗缪尔探针(Langmuir Probe)

品牌:Hiden Analytical
型号:ESPion
电感耦合等离子体系统

电感耦合等离子体系统

品牌:NextCVD
型号:MPDEX‐21/21-2
CD1000 Nanofics低压等离子表面处理设备

CD1000 Nanofics低压等离子表面处理设备

品牌:比利时Europlasma
型号:CD1000 Nanofics
Harrick扩展型等离子清洗器

Harrick扩展型等离子清洗器

品牌:Harrick
型号:PDC-002
UL-Coat-1常压等离子表面处理设备

UL-Coat-1常压等离子表面处理设备

品牌:ACXYS
型号:UL-Coat-1常压等离子表面处理设备
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等离子体表面处理仪解决方案

等离子体表面处理仪产品列表
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CD400 Nanofics 低压等离子表面处理设备

CD400 Nanofics 低压等离子表面处理设备

  • 品牌: 比利时Europlasma
  • 型号: CD400 Nanofics
  • 产地:比利时
  • Europlasma低压等离子设备可以实现产品的清洗、活化、功能性改性,通过Nanofics技术可以实现产品的防水、防腐蚀、防氧化处理,处理温度40℃以下。设备整体采用欧标工业化设计,运行稳定高效、寿命长。

CD500 Nanofics 低压等离子表面处理设备

CD500 Nanofics 低压等离子表面处理设备

  • 品牌: 比利时Europlasma
  • 型号: CD500 Nanofics
  • 产地:比利时
  • Europlasma低压等离子设备可以实现产品的清洗、活化、功能性改性,通过Nanofics技术可以实现产品的防水、防腐蚀、防氧化处理,处理温度40℃以下。设备整体采用欧标工业化设计,运行稳定高效、寿命长。

CD600 Nanofics低压等离子表面处理设备

CD600 Nanofics低压等离子表面处理设备

  • 品牌: 比利时Europlasma
  • 型号: CD600 Nanofics
  • 产地:比利时
  • Europlasma低压等离子设备可以实现产品的清洗、活化、功能性改性,通过Nanofics技术可以实现产品的防水、防腐蚀、防氧化处理,处理温度40℃以下。设备整体采用欧标工业化设计,运行稳定高效、寿命长。

CD1000 Nanofics低压等离子表面处理设备

CD1000 Nanofics低压等离子表面处理设备

  • 品牌: 比利时Europlasma
  • 型号: CD1000 Nanofics
  • 产地:比利时
  • Europlasma低压等离子设备可以实现产品的清洗、活化、功能性改性,通过Nanofics技术可以实现产品的防水、防腐蚀、防氧化处理,处理温度40℃以下。设备整体采用欧标工业化设计,运行稳定高效、寿命长。

Junior Nanofics 低压等离子表面处理设备

Junior Nanofics 低压等离子表面处理设备

  • 品牌: 比利时Europlasma
  • 型号: Junior Nanofics
  • 产地:比利时
  • ?Europlasma低压等离子设备可以实现产品的清洗、活化、功能性改性,通过Nanofics技术可以实现产品的防水、防腐蚀、防氧化处理,处理温度40℃以下。设备整体采用欧标工业化设计,运行稳定高效、寿命长。

Harrick扩展型等离子清洗器

Harrick扩展型等离子清洗器

  • 品牌: 美国Harrick
  • 型号: PDC-002
  • 产地:美国
  • PDC-001(115V); PDC-002(230V) 较大的桌面单元 可调射频功率(低功率,中功率和高功率设置) 射频线圈最大功率为30W 包括一个6英寸直径×6.5英寸长Pyrex腔室 带观察窗的铰链门 活动风扇冷却 用于真空泵的整体式开关 1/8“NPT计量阀,用于定性控制气体流量和腔室压力 1/8”NPT三通阀,可快速切换引入气体,排气和隔离腔室 重量:37磅 尺寸:11 “H x 18”W x 9“D

NextCVD系列多功能宽密度等离子体CVD

NextCVD系列多功能宽密度等离子体CVD

  • 品牌:
  • 型号: NextCVD(ICP-LP-PE-CVD)
  • 产地:
  • 国内的电感耦合等离子体都是基于中频13.56MHz的电源发生器,等离子体密度较低,而且是螺旋管式,主要用于等离子体刻蚀,不适宜用于沉积高质量薄膜。巨纳集团NextCVD系列多功能宽密度等离子体CVD(ICP-LP-PE-CVD)结合了电感耦合和电容耦合辉光放电的优点,可在宽密度工艺范围(109-1013 cm-3)实现稳定的等离子体辅助CVD,具有优良的材料处理性能和广泛的应用范围,是目前全球功能最强大的等离子体CVD系统。NextCVD 的原创性高密度低频平板式电感耦合等离子体系统在国内独一无二。频率可调节,从低频0.5- 4MHz范围内调节;电感天线是平板式,可根据客户要求改变天线的形状、大小,从而实现两种不同的放电模式:电感放电和电容放电,两种模式下都能实现稳定放电,两种模式的等离子体特性截然不同,可以实现不同的功能。产品特点基片台可电动旋转、可加热、可升降配装手动高真空插板阀、手动角阀、电脑复合真空计由于采用了超高真空密封技术,极限真空度高,沉积室可进入10-5Pa量级,可保证更高的镀膜纯净度,提高镀膜质量自动监控和保护功能,包括缺水欠压检测与保护、相序检测与保护、温度检测与保护、真空系统检测与保护等配备可开关观察窗,方便观察及取样品设备真空系统采用分子泵+机械泵真空机组采用磁力耦合传动密封技术密封运动部件真空规用金属规,刀口金属密封性能技术参数设备极限真空度:5.0×10-5Pa(等离子体沉积腔室)。5.0×10-1Pa进样室高密度等离子体:电子密度最高能达到1013 cm-3气体先驱物离化率:1-10%电感耦合离子体电源发生器频率从0.5-4 MHz可调,功率可从0-5000 W调节电感天线有椭圆和圆形两种,相应等离子源石英窗口形状也有椭圆和圆形两种,相应等离子体放电模式也有电感和电容模式两种,可根据用途选择。等离子体源石英窗口大小可根据要求进行调节供电:~380V三相供电系统(容量7KW),冷却水循环量1M3/H,工作环境温度10℃~35℃,冷却水温度18℃~25℃设备占用面积12M2(设备安装面积4M×3M)进样室上方窗口(玻璃橡胶圈密封):¢20cm沉积室抽气口在底部,样品架的两边抽气,有利于薄膜的均匀沉积设备总体漏放率:关机12小时后,真空度≤10Pa从大气到抽到≤7×10-4Pa,小于45min(新设备充干燥氮气),提高了工作效率样品台可旋转,速度:0~25转/分 可控可调。(样品台尺寸¢200mm)基片尺寸¢6英寸(根据用户需要可变)样品台加热器温度:室温~500±1℃。温度可控可调基片最大升降距离0~100mm可调配备2支¢3英寸磁控靶,其中一支可镀铁磁材料,磁控靶可伸缩磁控溅射靶电源:射频源 500W、13.56MHz;直流溅射电源,500W缺水欠压检测与保护、相序检测与保护、温度检测与保护、真空系统检测与保护应用领域:光伏行业(氮化硅/非晶硅/微晶硅/等离子体织构与刻蚀)新型二维材料(石墨烯/二硫化钼等的表面改性及制备)半导体工艺(刻蚀工艺/氮化硅与二氧化硅工艺等)纳米材料的生长与纳米形貌的刻蚀构造石墨烯氢等离子体可控改性石墨烯氩等离子体可控改性氩等离子体可控改性:引入空位缺陷氢等离子体可控改性:引入SP3缺陷

Diener PLASMA 大气压等离子清洗机

Diener PLASMA 大气压等离子清洗机

  • 品牌: 德国Diener
  • 型号: PLASMABEAM
  • 产地:德国
  • Diener,PlasmBeam,PlasmBeam PC,PlasmBeam大气压等离子清洗机/等离子表面处理 PlasmBeam PlasmBeam PC PlasmBeam DUOApplications: Rubber Electronic PlasticsCables-Tules效果: PlasmaBeam清洗过的区域,喷水后没有残留水滴。底材:铝底材:塑料技术参数:型号PlasmBeamPlasmBeam PCPlasmBeam DUO发生器频率与功率20kHz,300W20kHz,300W20kHz,600W反应气休/冷却气体无油空压机无油空压机无油空压机气体压力5-8bar5-8bar5-8bar气体流量2m3/h2m3/h4m3/h离子束手柄单只直径32mm,长度270mm,重量0.6kg电缆长度3m,Φ19mm(可订制)处理的最大宽度为12mm两只其它参数同前操作模式手动控制/远程控制MS-Windows控制无有无电源AC230V/6A/50~60Hz尺寸(mm)W562*H211*D420W562*H360*D650W562*H211*D420重量(KG)203020

NDS UV解胶机NDS312

NDS UV解胶机NDS312

  • 品牌:
  • 型号: NDS312
  • 产地:日本
  • NDS UV解胶机NDS312 UV解胶机NDS UV解胶机简介:UV解胶机适合6/8/12寸芯片整片照射使用,主体部分为不锈钢、铝合金制作,质量可靠,性能稳定;贴膜精度高且稳定;操作简单,易懂易会。NDS UV解胶机特点:1)小巧的桌面式设计2)采用液晶触摸屏一键式全自动完成解胶过程3)LED冷光源代替了传统的高压汞灯,结果试验认证,4)使用寿命比普通汞灯寿命长10倍以上5)LED冷光源与汞灯组成的光源相比,更能实现稳定性,均匀性的照射6)LED冷光源安全性高,热量小,功耗低7)设备开门关门时,LED冷光源处于关闭状态,有效防止紫外光外泄对人体伤害8)U V照射机具有故障提示报警灯功能NDS UV解胶机参数:序号内 容参 数1额定电压AC 220V2频率50/60HZ3额定功率800W4UV灯波长365nm5外形尺寸(长*宽*高)700mm×660mm×380mm6机器重量35kg7胶膜类型UV膜8胶膜厚度0.15~0.17mm9照射功能自动式10保护接地电阻小于4ΩNDS UV解胶机尺寸:外形尺寸(长*宽*高)700mm×660mm×380mm

反应式离子蚀刻机

反应式离子蚀刻机

  • 品牌: 香港Teltec
  • 型号: RIE
  • 产地:
  • 反应式离子蚀刻机 性能特点 Capability Features: 用于失效分析的剥层分析解决方案群,世界顶尖反应式离子蚀刻机,物理沉移系统,原子层化学气相沉积系统. RIE/PE and RIE-ICP FA system 这些灵活的失效分析工具可以实现从钝化层的去除到各项异性的氧化物的去除,从小管芯或已封装的器件到300mm直径的晶片整个范围的工艺. 去除氮化物钝化层后刻蚀金属间介质后四层金属暴露 金属间介质后的失效分析 优点: - 工艺灵活,既可采用RIE/PE,也可采用ICP - 先进的管芯工艺:采用等离子体加速器的刻蚀速率比标准的RIE工艺快20倍 产品范围: - 可以处理300mm晶片的RIE/PE双模式设备 - 快速低损伤的模具刻蚀装置 - 处理200mm晶片的双模式设备 - 填充用的正硅酸乙酯(TEOS)工艺 应用: - 各向同性的聚酰亚胺的去除(RIE或ICP模式) - 各向同性的氮化物(钝化层)的去除(PE或ICP模式) - 各向异性的氧化物(金属间介质/层间介质)的去除(RIE或ICP模式) - 各向异性的低K值氧化物的去除(RIE或ICP模式) - 金属支架的去除(RIE或ICP模式) - 多晶硅的去除(RIE模式) - 铝或铜的去除(ICP模式)

PlasmaFlo气体流量混合器

PlasmaFlo气体流量混合器

  • 品牌: 美国Harrick
  • 型号: PDC-FMG-2
  • 产地:美国
  • PlasmaFlo是一种可选配件,可与任何等离子清洗机配套使用,有利于气体混合,更精确地定量控制气体流量和监测真空压力。

PCB离子污染测试仪

PCB离子污染测试仪

  • 品牌:
  • 型号: LZ12
  • 产地:
  • PCB离子污染测试仪PCB离子污染测试仪用途:本产品用于印制线路板行业相关检测仪器,可对清洗,涂敷等工艺前后光板进行离子污染测试;拓展应用到对元器件生产工艺中某一阶段的制品进行测试或对装配清洗前后的电路板做离子污染测试;有利于进一步提高电子产品寿命, 可靠性,控制环境污染。PCB离子污染测试仪特点:1、操作简单:由电脑控制完成预热、测试及再生测试;2、USB、RS232数据线自由切换,满足不同端口电脑需求;3、2种操作语言可供选择:中英文简体;4、实时显示电导率和离子曲线,测试过程更直观;5、先进的操用系统安全性:多级操作用户密码保护;6、具有加热及温控功能,工作温度恒定在40℃±0.3℃;7、采用阴阳离子混合交换树脂,过滤效果更好;8、系统自动保存测试结果,测试报告为Excel格式;9、测试时间可自行设定,测试过程中也可以手动停止保存结果。效率提升对比图:效率提升约27%(30L为例)20mlNACL动态测:14min20mlNACL静态测6min+13min再生=19min测试方式动态离子测试静态离子测试仪器型号ASIDA LZ21ASIDA LZ12物件尺寸66.0*66.0cmPCB实际面积8712.0 Sq.cmPCB有效面积百分比100%测试耗时14min6min等价总质量12530 u g Eq NaCL12197u g Eq NaCLPCB离子污染测试仪技术参数:项目 规格型号 LZ12LZ21测试方法 静态测试静态/动态测试测试精度 ±5%电导率分析率0.001 us /c电极分辨率范围0.0001us/c测量板面积标准:1200-4200c 加大:1200-8712c萃取液比重 0.85-0.855基准22-66MΩ66-100MΩ水箱体积标准:352*70*600mm约17L加大:680*65*680mm约30L其他规格可另行定制外形尺寸 标准:1050*600*920mm加大:1401*600*1000mm功率 1300W1700W电源要求 AC220V 50HZ重量 标准:约115KG 加大:约150Kg工作环境温度 22±3℃工作萃取液温度 40±2℃

等离子表面处理仪

等离子表面处理仪

  • 品牌: 合肥科晶
  • 型号: GSL1100X-PJF
  • 产地:
  • 产品型号:GSL1100X-PJF 等离子表面处理仪 产品简介:GSL1100X-PJF 等离子表面处理仪是一种紧凑的大气离子表面处理喷射系统,主要由射频发生器、离子束头组成。喷射的离子束流能在较低的温度和没有真空条件下,迅速活化和清理材料表面。例如单晶片、光学元件、塑料等广泛的材料。 为了获得高质量的外延薄膜或者光学涂层,预先进行表面处理可以得到显著的效果。 主要特点: 操作简单、安全,高速处理物件表面; 不需要真空、不需要腔室; 手提式、可以现场使用、成本低; 重量轻、结构紧凑。 技术参数: 输入电源:110/220,50/60Hz,小于1000W; 输出频率:20-23KHz; 离子束头:包括2个离子束头,圆头10-12mm,矩形头15-18mm; 输入气体压力和工作气氛:最小0.275兆帕,工作气氛可以是空气、氮气、氩气、混合气体(不要使用易燃易爆气体); 等离子工作压力:0.048兆帕-0.068兆帕; 工作环境:温度< 42°C;湿度≤ 40%RH;没有易燃气体; 外形尺寸:380 (宽) ×210 (高) ×500 (长) mm; 净重:10公斤; 产品证书:CE认证 具体信息请点击查看:www.kjmti.com

电感耦合等离子体系统

电感耦合等离子体系统

  • 品牌:
  • 型号: MPDEX‐21/21-2
  • 产地:
  • 电感耦合等离子体系统可以产生高密度(1012~1013 cm-3)的电感耦合等离子体,可以施加频率从0.5~13.56 MHz(低频到中频)的射频电源,外加功率变化范围是0~5000W。主要用于等离子体辅助化学气相沉积(CVD)、薄膜制备与处理、表面改性、刻蚀与晶片清洗等。电感耦合等离子体系统MPDEX21/21-2主要由以下几个部分组成(1)平板式电感耦合等离子体源结合电源发生器和射频匹配网络可以产生高密度(1012~1013cm-3)的电感耦合等离子体,可以施加频率从0.4~13.56 MHz(低频到中频)的射频电源,外加功率变化范围是0~5000W。主要用于等离子体辅助化学气相沉积(CVD)、薄膜制备与处理、表面改性、刻蚀与晶片清洗等。优势特点可有效控制离子轰击效应,以利于减少离子轰击。高度气体先驱物的离化率,可以达到1~10%。广泛的工艺化学范围持有成本降低增强终端用户工艺开发和输出量整合式电源、匹配和等离子腔室即插即用的安装广泛的匹配范围耐用的石英玻璃或三氧化二铝介电质材料最高的等离子功率密度(2)射频匹配网络(RF Matching Network)射频网络包括匹配(Matching)和调谐(Tuning),其中匹配网络的固定电容可提供的选择从5到100纳法(nF)等等,调谐网络的电容可调节范围是10~2010,1010~3100,2010~4010,3010~5010,4010~6010皮法(PF)等等。主要为磁控溅射、电容耦合等离子体(CCP)和电感耦合等离子体(ICP)提供匹配网络,通过匹配网络提供可调节的阻抗使磁控溅射、CCP和ICP能在不同的工艺条件下正常运行。优势特点加强了工艺控制最大限度地减小反射功率加速反应时间有助于提高工具吞吐量和产量简单易控制的匹配平台整合式仪器简化的设计严格的测试(3)Advanced Energy PDX 8000低频电源,340-440 KHz, 8000W主要为容性或者感性等离子体提供射频电源。PDX系列大功率(5000和8000W)低频电源为各种广泛的工艺应用提供一种高效、紧凑、易于整合的电源。这些高度可靠地电源提高了工艺灵活性,提供广泛的运行频率范围以优化工艺控制,确保较高的工艺重复性,并提高了吞吐量。优点功能恒功率、电压或电流输出最高的灵活性与模块性强大的电弧控制自动制程保护装置极宽的祖抗匹配范围高功率密度5 kW和8kW选项两种不同的弧处理电路高效能、紧凑型水冷式设计多种可选配件符合CE标准(4)Advanced Energy Dressler Cesar 2 MHz或13.56 MHz射频发生器,600 W, 1000 W或2000 W主要为磁控溅射,CCP和ICP提供射频电源。强大而多功能的Cesar平台可提供非常稳定的射频功率输送性能,以及一个多样化的模式选择,每种模式都具有一套独特的功能(2、4、13.56、27.12和40.68 MHz;0.3至5 kW;拥有多种用户界面和输入选择),从而使您能够选择一套特别适合您应用的组件而无需定制发生器所需的漫长交付期。高质量的组件和较少的零件数量使可靠性和产品生命周期均实现最优化,从而使您的投资和制程生产力得到最大化的利用。一个全面而高度灵敏的操作菜单(可在该组件的多功能前面板上找到,并显示在一个大的液晶显示屏上)带来了无与伦比的便利性提高了操作人员的效率,并使培训成本最小化。优点功能更长的制程正常运行时间更高的操作简易性和灵活性无需定制组件提前期的定制化性能长期的使用简易性,节省成本精的流线型设计标准的平台包装高效率低发热量200和400 VAC的输入选择两个模拟用户端口选择RS-232、以太网、和Profibus通讯多功能前面板便利、全面的操作菜单CEX(相位同步)操作模式遵循SEMI(符合或超过标准)

高级朗缪尔探针(Langmuir Probe)

高级朗缪尔探针(Langmuir Probe)

  • 品牌: 英国Hiden Analytical
  • 型号: ESPion
  • 产地:英国
  • 仪器简介:ESPion高级朗缪尔探针(AdvancedLangmuirProbesforElectricalPlasmaCharacterisation)可快速、可靠、精确地进行等离子体诊断,是最先进可靠的朗缪尔探针(LangmuirProbe)。 技术参数:应用: 蚀刻/沉积/ 清洁等离子体 脉冲等离子体操作 离子密度 (Ni & Gi) 电子温度(Te) 电子能量分布(EEDF) 电子密度(Ne) 等离子体电位 Debye 长度,悬浮电位 主要特点: 获得数据速度:每秒15次扫描,通过D-O-E-界面可以自动、半自动或手动分析 Hiden在被动射频补偿方面处于领先地位,在所有的商业化探针中 ESPion 具 有最高的屏蔽阻抗(4.25Mohm at 13.56 MHz cf. 100kohm) 高温等离子体操作时的气体制冷多感应器链,使用者可调谐至其他频率 参考探针补偿用于抵制较低频率影响,例如等离子体电位漂移(例如,反应室 内腔阳极氧化所致) 或噪音(例如,供电源引起) ESPion 是所有商业化探针中最快速的脉冲等离子体探针,ESPsoft 包括所有 必需的标准脉冲选通电路 300、600、915mm 自动线性驱动器可选,互锁隔离阀, 90°探针,组合式 线性-旋转驱动器可选 自清洗循环,防止探针尖端污染 经由RS232、RS485、Ethernet LAN 和 ESPsoft软件控制

PCB等离子除胶机 Diener Tetra185

PCB等离子除胶机 Diener Tetra185

  • 品牌: 德国Diener
  • 型号: Tetra185
  • 产地:德国
  • Diener Tetra185 Plasma PCB DesmearingPCB等离子除胶机 Diener Tetra185接受不同规格舱体及工艺定制循环时间为15分钟和90分钟之间同时可以处理7块PCB板,处理最大尺寸为510×610mm 应用领域:- 除污杂材料- 聚酰亚胺箔加压前的蚀刻与活化,以便它能够提高粘接强度- 表面清洁- 金属表面粘接和焊接前的活化 去除胶渣的材料类型:- FR4standard (for example Panasonic MC-100MS/EX)-Modified FR4 systems (for example Panasonic: R-1766 T,R-1566W, R-1755-C)-BT-systems (for example Isola IS620)-CE-systems (Cyanante-Ester, for example Nelco)-Polyamide materials (for example Isola P97, FNC… and AP…)- PTFEbased on laminates (for example Rogers RO3000')- Polymer based on laminates (for exampleRogers RO4000')技术参数控制方式FULL PC-Control工艺气体4路 MFCs压力控制皮拉尼压力计腔体材质不锈钢, 腔体尺寸W 400 mm x D 700 mm x H 665 mm 约185L托盘垂直,7层PCB专用电极垂直,7层PCB专用发生器80kHz,0~3000W真空泵螺杆泵,排气速度500m3/h,外接冷却水防腐有,可对应CF4,SF6H2安全阀有活性碳过滤有外尺寸:W600 mm x D 1000 mm x H 2100 mm电源三相400 V / 16 A立体托盘舱门单个托盘

Diener电镜专用等离子清洗机Femto

Diener电镜专用等离子清洗机Femto

  • 品牌: 德国Diener
  • 型号: Femto电镜专用型
  • 产地:德国
  • Diener电镜专用等离子清洗机用途: 主要用于除去透射电镜样品及样品杆上的污染,防止碳沉积以降低图像分辨率及对样品微区分析造成误判。还可以利用该仪器清洗各类光阑等电子显微镜配件。特别适用于场发射扫描电镜和场发射透射电镜。用这种低能高频等离子体清洗样品表面,不会改变样品元素成份和表面结构特征。主要技术参数:1. 可对多孔碳膜进行高效且无破坏的清洗,提高样品在低电压下的成像能力,在化学微量分析时提高其精度2. 无油真空系统:泵体部分由多级隔膜泵和超净音分子泵组成,在保证真空度的同时,可在两分钟之内达到抽真空和放气过程,整个清洗过程在4分钟内可以完成3. 可清洗标准透射电镜样品杆4. 可清洗多孔碳膜5. 清洗时间:普通污染样品小于2分钟,重度污染样品小于10分钟 6. 重现性:可以自动记录下同类产品清洗的条件,下次清同类产品时可以样条件进行技术规格:控制方式手动控制发生器40KHz,0~100W腔体材质高硼硅玻璃腔体尺寸Dia.90*L280mm气路单路???清清时间旋钮式计时器0~99hour压力控制范围0~2mbar外型尺寸W345*D420*H211mm???电源电压单相AC230V,16A真空泵排气速度4m3/hour,极限真空度0.5Pa选配????发生器2.45GHz和13.56MHz腔体材质石英玻璃气路双路计时器数字式计时器减压阀配专用气路接口钢瓶10L

Diener Tetra100 等离子表面清洗/蚀刻机

Diener Tetra100 等离子表面清洗/蚀刻机

  • 品牌: 德国Diener
  • 型号: Tetra100
  • 产地:德国
  • Diener等离子表面处理设备 德国原装进口德国Diener是专门生产经济、可靠的等离子清洗和等离子刻蚀设备的公司, 是世界上材料处理低温等离子体设备的市场和技术领先者。Diener采用先进的集成化技术开发生产射频频率为40KHz 、80KHz、13.56MHz,以及代表等离子应用最先进技术的2.45GHz的等离子清洗机。 目前设备广泛应用于:等离子清洗、刻蚀、灰化、涂镀和表面处理。产品主要分布在真空电子、LED、太阳能光伏、集成电路、生命科学、半导体科研、半导体封装、芯片制造、MEMS器件等领域。其设备生产零件均选用其零件行业的最优质产品,以保证性能技术稳定。德国diener等离子表面处理设备特点:等离子清洗机清洗效果好,效率高,应用范围广。对清洗样品,没有任何材质、外观尺寸等要求等离子清洗过程中,温升很小,基本可达到常温处理。射频功率无极连续可调。高效的特制电极,是产生均匀等离子体的保证。特制电极和托盘结构,可充分利用真空舱体内部空间,使处理效率最大化,同时也可保证样品可得到全面有效的清洗。特有的过载、短路和过热保护电路,可保证射频电源的稳定和安全。设备整体模块化设计,安装与维护极为简单。德国diener等离子表面处理设备的应用范围: 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。 清洗半导体元件、印刷线路板。 清洗生物芯片、微流控芯片。 清洗沉积凝胶的基片。 高分子材料表面修饰。 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。 煤、石棉灰化。Diener Plasma 低压/真空等离子表面处理/清洗/蚀刻机Tetra100 主要技术参数:基本配置:根据具体组件/选装件,外壳规格会有所不同腔室容积:根据具体版本,分为 80 - 100 升供电电源: 230 V 或者 400 V / 3 相位气源质量流量控制器 (MFCs)真空腔室圆形不锈钢件,配有铰链的门(约 ? 400 mm、长 625 mm)矩形不锈钢件,配有铰链的门(约宽 400 mm x 高 400 mm x 深 625 mm)装载件产品支架(选项:水冷型)、石英玻璃舟皿、粉末转鼓、散装件转鼓、铝板、不锈钢板、硼硅玻璃、石英玻璃电极单层或多层具有气体喷淋的 RIE 电极控制系统PCCE 控制系统 (MicrosoftWindows CE)PC 控制系统 (Microsoft Windows POS Ready 2009)压力测量PiraniBaratron(适用于腐蚀性气体版本)计时器数字型发生器频率: 40 kHz: 功率 0 - 1000 W;0 - 1500 W;0 - 2500 W13.56 MHz: 功率 0 - 300 W;0 - 600 W;0 - 1000 W2.45 GHz: 功率 0 - 1200 W所有发生器均为 0 - 100% 无级可调型真空泵规格和制造商均各有不同(按照活性炭过滤器的需要)其他选项备件套件、压力计、腐蚀性气体设计结构、气瓶、减压器、加热板、温度显示器、加热型腔室、Faraday Box、等离子体聚合配件、测试墨水、 氧气发生器、慢速通风装置、慢速抽吸装置、TEM样品架法兰、维护/服务、当地语言的文件、现场安装,包括培训。可应要求提供的其他选项。上海尔迪仪器科技韦德国际1946手机版 中国总代理

Diener Tetra50-LF 等离子表面处理/清洗机

Diener Tetra50-LF 等离子表面处理/清洗机

  • 品牌: 德国Diener
  • 型号: Tetra50
  • 产地:德国
  • Diener等离子表面处理设备 德国原装进口德国Diener是专门生产经济、可靠的等离子清洗和等离子刻蚀设备的公司, 是世界上材料处理低温等离子体设备的市场和技术领先者。Diener采用先进的集成化技术开发生产射频频率为40KHz 、80KHz、13.56MHz,以及代表等离子应用最先进技术的2.45GHz的等离子清洗机。目前设备广泛应用于:等离子清洗、刻蚀、灰化、涂镀和表面处理。产品主要分布在真空电子、LED、太阳能光伏、集成电路、生命科学、半导体科研、半导体封装、芯片制造、MEMS器件等领域。其设备生产零件均选用其零件行业的最优质产品,以保证性能技术稳定。德国diener等离子表面处理设备特点:等离子清洗机清洗效果好,效率高,应用范围广。对清洗样品,没有任何材质、外观尺寸等要求等离子清洗过程中,温升很小,基本可达到常温处理。射频功率无极连续可调。高效的特制电极,是产生均匀等离子体的保证。特制电极和托盘结构,可充分利用真空舱体内部空间,使处理效率最大化,同时也可保证样品可得到全面有效的清洗。特有的过载、短路和过热保护电路,可保证射频电源的稳定和安全。设备整体模块化设计,安装与维护极为简单。德国diener等离子表面处理设备的应用范围: 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。 清洗半导体元件、印刷线路板。 清洗生物芯片、微流控芯片。 清洗沉积凝胶的基片。 高分子材料表面修饰。 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。 煤、石棉灰化。Diener Tetra50-LF Plasma 主要技术参数:Tetra-50-LF 标准配置*操作界面简单方便* 反应舱 305mm(宽)×300mm(高)×625 mm(深) * 不锈钢反应舱体,铝合金舱门* 40KHz 射频发生器* 高效针孔电极* 数字计时器可自动设定操作程序* 皮拉尼真空泵可设定重复操作,真空泵排气净化管路* 双气体配置, 铜气体管、气体流量计、 针阀* 可调节气体流量计* 自动计时器控制等离子处理过程* 功率:0-1000W连续可调* 自动阻抗匹配* 电极4层电极,样品托盘4层放置 (可选装最多至6层)不锈钢托盘* 安全保护功能:防静电真空开关,安全传感舱门* 电磁阀保护,回流油雾不能进入反应舱* 操作:手动或全自动 * 参数控制: 处理时间、功率、气体流量、压力* 外形 600mm(宽)×1800mm(高)×800mm(深) * 电压:380-400V/16A* 真空泵 :莱宝(Leybold)Type D16B(16m3/h) 选装件:旋转舱体、计算机控制系统上海尔迪仪器科技韦德国际1946手机版 中国总代理

Diener PlasmaBeamMini 等离子表面处理

Diener PlasmaBeamMini 等离子表面处理

  • 品牌: 德国Diener
  • 型号: PlasmaBeam Mini
  • 产地:德国
  • Technische Daten PlasmaBeamMini1.外尺寸: B 350 mm, H 166 mm, T 300 mm, 重量. 10 kg2. 喷头直径.φ25 mm, L 150 mm, 重量. 0.5 kg,线缆 1.5 m3. 发生器:2,45 GHz/8 W4.反应气体:单路Ar 5. 电源:单相100~240V,1.5A 上海尔迪仪器科技韦德国际1946手机版 中国独家代理

Diener Tetra30 等离子表面处理仪

Diener Tetra30 等离子表面处理仪

  • 品牌: 德国Diener
  • 型号: Diener Tetra30
  • 产地:德国
  • Diener等离子表面处理设备 德国原装进口德国Diener是专门生产经济、可靠的等离子清洗和等离子刻蚀设备的公司, 是世界上材料处理低温等离子体设备的市场和技术领先者。Diener采用先进的集成化技术开发生产射频频率为40KHz 、80KHz、13.56MHz,以及代表等离子应用最先进技术的2.45GHz的等离子清洗机。目前设备广泛应用于:等离子清洗、刻蚀、灰化、涂镀和表面处理。产品主要分布在真空电子、LED、太阳能光伏、集成电路、生命科学、半导体科研、半导体封装、芯片制造、MEMS器件等领域。其设备生产零件均选用其零件行业的最优质产品,以保证性能技术稳定。德国diener等离子表面处理设备特点:等离子清洗机清洗效果好,效率高,应用范围广。对清洗样品,没有任何材质、外观尺寸等要求等离子清洗过程中,温升很小,基本可达到常温处理。射频功率无极连续可调。高效的特制电极,是产生均匀等离子体的保证。特制电极和托盘结构,可充分利用真空舱体内部空间,使处理效率最大化,同时也可保证样品可得到全面有效的清洗。特有的过载、短路和过热保护电路,可保证射频电源的稳定和安全。设备整体模块化设计,安装与维护极为简单。德国diener等离子表面处理设备的应用范围: 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。 清洗半导体元件、印刷线路板。 清洗生物芯片、微流控芯片。 清洗沉积凝胶的基片。 高分子材料表面修饰。 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。 煤、石棉灰化。Diener Tetra30 Plasma 主要技术参数:1.*便捷的PC触摸屏控制,操作系统为Windows CE5.0(ARM)2.*根据工艺要求不同,可设定功率、压强、气体流量与时间等参数3.双路工作气体,气体流量通过数字式流量计(MFC)控制4.*反应舱为不锈钢,宽305mm ×深625 mm×高300 mm,容积约为50L5.高周波电流频率13.56MHz,功率0~300W6.反射波自动调节,无须手工调节7.电极材质为铝/不锈钢8.运行模式为手动/自动9.*可存储多套工艺程序,图表实时显示工艺过程10.真空泵的排气能力为16m3/Hour,配有强制进气阀11.*配有压力传感器,可根据工艺要求设定压力值12.电源电压:400V /16A

Diener Plasma Femoto Yocoto 牙科等离子表面处理

Diener Plasma Femoto Yocoto 牙科等离子表面处理

  • 品牌: 德国Diener
  • 型号: Diener
  • 产地:德国
  • Diener electronic 公司世界首创Diener electronic 公司推出了第一台适合牙科种植专家和牙科技师使用的低压等离子系统。牙科技术现在还没有粘合促进剂或者底漆仅在原子水平上进行清洗、活化、蚀刻和涂层。用 FEMTO-PCCE-系统直接在实验室中进行等离子体预处理是极为有效和环保的。等离子体技术被认为是极为环保的,而且成本较低,适合用来替代化学粘合促进剂,其某些工艺对于牙科技术部件的预处理而言是至关重要的。表面蚀刻作为所有粘合剂和复合面的最佳保留基层,具有极好的润湿性,而且科学记录表明紧密清洗效果提供了决定性的优势。Femto PCCE-牙科技术 正面Femto PCCE-牙科技术 背面Femto牙科技术没有粘合促进剂或者底漆,通过等离子体预处理,极为有效和环保多年来,对很多行业领域而言,缺少等离子体技术是不可想象的。 随着新的 Diener 等离子系统的研发,特别是对于牙科技术和口腔医学方面,等离子体技术现在也已经拥有了自己的用户群。用等离子体可以对金属(EM、NEM 和钛)和诸如 PEEK、PEKK、Acetal (POM)、PE、PA 或者 PMMA 之类的高性能塑料进行清洗、活化、蚀刻和涂层。YoctoYocto种植术方面等离子体清洗的讲座牙根植入物的等离子活化和上层结构的精密清洗通过提高表面能量增加润湿性改善周边软组织的附着性,并导致黏膜密封更为快速具有去污作用,并能够有助于形成无刺激和无炎症性介孔结构能够很好的固定所有部件,并借此减少细菌污染率减少螺栓连接的失效风险

等离子体表面处理仪EMS1050(低温灰化仪)

等离子体表面处理仪EMS1050(低温灰化仪)

  • 品牌: 美国EMS
  • 型号: EMS1050
  • 产地:美国
  • EMS1050 低温灰化仪应用领域:l  生物芯片领域l  医用材料、光学材料研究l  电子半导体领域l  高分子材料研究l  电化学、高端零部件处理l  有机材料的灰化、刻蚀 仪器性能:l  自动调频高频发生器l  内置旋转真空泵l  此系统通常使用氧及氩的混合气体,氧去除有机物质(碳氢化合物),氩对样品表面进行刻蚀l  低温等离子灰化、刻蚀、清洗 (0-150 watts RF) l  真空监测. l  双重气流针阀控制 l  精确时间定时 l  微处理器程序设置l  LCD状态数字显示l  腔室为圆柱形,样品装载为抽屉式抽拉系统,样本操作方便 l  聚碳酸脂安全防护   技术参数:电镜有机样本的刻蚀尺寸450mm(W)x350mm(D)x300mm(H)工作腔室派热克斯玻璃 150mm(L)x100mm(Dia.) (硼硅酸盐玻璃为标准配置)重量25Kg等离子体输出最大150w,13.56 MHz 。等离子体输出最大150w,13.56 MHz 。真空度>ATM to 1 x 10-5mbar;通常 0.5 mbar to 1.0 mbar.时间控制最长可设置99小时59分钟双重气流控制双重针阀气流控制,可选1种或2种气体(校准   5-100cm3/min air at A.T.P)电源230 V, 50Hz (3 amp Max)

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